❶ 常见工业气体中哪些是有毒气体
有毒有害气体分为两类：
①刺激性气体——是指对眼和呼吸道粘膜有刺激作用的气体 它是化学工业常遇 到的有毒气体。刺激性气体的种类甚多，最常见的有氯、氨、氮氧化物、光气、氟化氢、二氧化硫、三氧化硫和硫酸二甲酯等。
②窒息性气体——是指能造成机体缺氧的有毒气体 窒息性气体可分为单纯窒息性 气体、血液窒息性气体和细胞窒息性气体。如氮气、甲烷、乙烷、乙烯、一氧化碳、硝基苯的蒸气、氰化氢、硫化氢等。
❷ 什么叫工业气体
工业气体：一种瓶装压缩液态气体，在常温常压下呈气态，气体种类有繁多，主要用于各种工业制造方面。
❸ 工业用的气体都是从空气中分离出来的吗
工业气体的种类比较多：
①氮气,通过深冷分离的方法制的；
②氧气,通过深冷分离的方法制的；
③氩气,通过深冷分离的方法制的；
④二氧化碳,通过尾气回收并分离的方法制的；
⑤氢气,通过甲烷裂解或水电解的方法制的（甲烷裂解的成本小,但是杂质多；水电解的成本高但是纯度好）
⑥电子气（硅烷等一些气体）,通过化学合成或分解的方法制的；
⑦焊接用气（乙炔等）,通过石油裂解的方法制的.
❹ 工业天然气表怎么看
工业天然气表怎么看方式如下：
1、燃气表现在有普通膜式燃气表和智能燃气表，渗液岩普通膜式燃气表上的机械数字就是已经用了的量；
2、普通膜式燃气表上有黑色和红色区域，黑色区域就是用了的燃气的整数，红色部分就是用了的燃气的小数后的三位数；
3、智能燃气表是需要用卡购买的，上面显示的数字就是购买的燃气剩埋和余量；
4、这个显示屏也不是长期显示剩余量的，有时候需要手动去插卡查询，或者读卡查询，有的也可以直接按按钮唤醒来查询；
5、插卡识别的，插进去后显示屏就会显示数字。更好一点的是只需要把卡放在识别区就能读取数字了；
6、有的智能燃气表也可以直接丛御按旁边的红色按钮，就可以唤醒屏幕来查看了，和智能电表一样。
❺ 我想知道关于工业气体二氧化碳的相关详细知识
二氧化碳又称碳酸气，是无色、无臭、稍有酸味、无毒性气体。分子量44.009，在标准状态下，其密度为1977Kg/m3。气体相对密度1.529（空气=1）。二氧化碳能溶于水并部分生成碳酸，对水的溶解度随温度的升高和压力的降低而减小，熔点为-56.57℃，沸点为-78.4℃，临界温度为31.1℃，临界压力为7.38MPa。
液体二氧化碳在压力降低时会蒸发，并吸收周围大量的热而凝固成干冰，此时密度为1.564Kg/L，升华温度为-78.4℃。固体二氧化碳的密度受压力影响甚微。
二氧化碳的化学性质在常温下稳定，不会分解，在高温下，容易分解成一氧化碳和氧，因而具有氧化性。
二氧化碳也具有一切酸性氧化物的化学性质，并能与碱性氧化物或碱起化学反应。
在工业一般使用钢质无缝气瓶盛装二氧化碳，气瓶颜色为铝白色，在气瓶瓶身上用仿宋字写有“液化二氧化碳”字样，瓶阀为铜质，带有安全泄放装置（爆破片），气瓶的公称工作压力为15MPa，公称容积为40L。
在气体充装站，对二氧化碳一般充装18~24Kg（二氧化碳的充装系数为0.6，也就是说，一只公称容积为40L的钢质无缝气瓶，最大充装量为40*0.6=24Kg）。
市场上目前使用最多的是将其作为保护焊，在机械行业使用较多，有较大的市场。
二氧化碳的售价一般按瓶计算，也可以与充装商谈以公斤论价。
❻ 医用氧气和工业氧气的区别
目前医用氧气主要有专门的氧气供应站输送到医院内，有些大的医院还有自己的氧气站。如果家庭充氧气，可以直接到氧气站，也可以到医院。氧气站属于高危工作环境，一般位置非常偏僻，不容易找到。如果需要用到医用氧，建议到医院填充。通常各个医院的急诊科都提供这种服务，不过大医院有些只提供管道氧，填充有困难，建议到一级医院磨银充氧。
与工业氧的区别
工业氧是用于工业生产及产品加工的工业气体，质量要求较低一般要求纯度在99%以上为合格。灌装规程不如医用氧气严格，常常会有水分和其他杂质混入并且残留在氧气钢瓶中，混入和残留在钢瓶中的水份会导致氧气瓶内壁锈蚀，从而使瓶内气体带有异味。同时工业氧中还存在一氧化碳、二氧化碳、乙炔等对人体极为有害的杂质，一旦病人吸入过量，会发生呛咳、结痂等现象，引发或加重呼吸系统的病症。
医用氧气俗称干燥氧气：医用氧气纯度要求在99.5%以上，在生产瞎烂宴和充装过程中除了去除对人体有害的气体外，主要的就是严格控制氧气中的水含量。由于医用氧气是历橘吸入人体内并且在医疗方面得到广泛应用，所以，药品监管部门一直把医用氧气列入药品来管理，要求生产、经营医用氧气都要取得许可证。
❼ 工业气体和特种气体的差别是什么
工业气体和特种气体的差别主要在于工业气体出产和销售的量很大,但对纯度要求不高。而特种气体产销量虽小，但却在有、不同的用处时候有不同要求，比如对纯度或组成以及有害杂质允许的最高含量、产品的包装贮运等等都有极其严格的要求。
❽ 什么叫高纯气体，工业气体
工业上，把常温常压下呈气态的产品统称为工业气体产品。
气体产品种类繁多，大致可以分为一般工业气体和特种气体两大类。
一般工业气体产销量大，但对纯度要求不高。特种气体产销量虽小，但根据不同的用途，对不同特种气体的纯度或组成、有害杂质允许的最高含量、产品的包装贮运等都有极其严格的要求，属于高技术，高附加值产品。
通常，可以将特种气体分为三类，即高纯或超高纯气体、标准校正气体和具有特定组成的混合气体。
气体产品作为现代工业重要的基础原料，应用范围十分广泛，在冶金、钢铁、石油、化工、机械、电子、玻璃、陶瓷、建材、建筑、食品加工、医药医疗等部门，均使用大量的常用气体或特种气体。
❾ 工业气体颜色有哪些
工业气体的颜色有：
氧气，天蓝色侍简困，黑字；
氮气，黑色，黄字；
压缩空气，黑色，白字；
氯气，草绿色，白字；
氢气，深绿色，红字；
氨气，黄色，黑字老念；咐源
石油液化气，灰色，红字；
乙炔，白色，红字。
❿ 什么是标准气体什么是特种气体
气体工业名词术语（标准气体、高纯气体、特种气体）
1. 特种气体(Specialty gases) ：指那些在特定领域中应用的, 对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多, 通常可区分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等, 广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。
2. 标准气体(Standard gases) ：标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值)准确的测定标准, 它们具有复现、保存和传递量值的基本作用, 在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校准测量仪器和测量过程, 评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力, 确定材料或产品的特性量值, 进行量 值仲裁等。大型乙烯厂、合成氨厂及其它石化企业, 在装置开车、停车和正常生产过程中需要几十种纯气和几百种多组分标准混合气, 用来校准、定标生产过程中使用的在线分析仪器和分析原料及产品质量的仪器。标准气还可用于环境监测, 有毒的有机物测量, 汽车排放气测试, 天然气BTU 测量, 液化石油气校正标准, 超临界流体工艺等。标准气视气体组分数区分为二元、三元和多元标准气体; 配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2M I 配气允差标准, 但各公司均有企业标准。组分的最低浓度为10- 6级, 组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法, 然后用色谱分析校核, 也可按标准传递程序进行传递。
3、电子气体(Elect ron ic gases) ：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4 _6 m+ p- _4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、L S I (大规模集成电路) 级、VL S I (超大规模集成电路) 级和UL S I (特大规模集成电路)级。
4. 外延气体(Cp itax ial gases) ：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD) 的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4 种, 即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅, 主要用于外延硅淀积, 多晶硅淀积, 淀积氧化硅膜, 淀积氮化硅膜, 太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。
5. 蚀刻气体(Etch ing gases) ：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来, 这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是, 图形边缘整齐, 线条清晰, 图形变换差小, 且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污, 所以
其应用范围日益广泛。
1. 特种气体(Specialty gases) ：指那些在特定领域中应用的, 对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多, 通常可区分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等, 广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。
2、 标准气体(Standard gases) ：标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值准确的测定标准, 它们具有复现、保存和传递量值的基本作用, 在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校. d( [准测量仪器和测量过程, 评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力, 确定材料或产品的特性量值, 进行量值仲裁等。大型乙烯厂、合成氨厂及其它石化企业, 在装置开车、停车和正常生产过程中需要几十种纯气和几+百种多组分标准混合气, 用来校准、定标生产过程中使用的在线分析仪器和分析原料及产品质量的仪器。标准气还可用于环境监测, 有毒的有机物测量, 汽车排放气测试, 天然气BTU 测量, 液化石油气校正标准, 超临界流体工艺等。标准气视气体组分数区分为二元、三元和多元标准气体; 配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2M I 配气允差标准, 但各公司均有企业标准。组分的最低浓度为10- 6级, 组分数可多达20余种配制方法可采用重量法, 然后用色谱分析校核, 也可按标准传递程序进行传递。
3、 电子气体(Elect ron ic gases) ：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、L S I (大规模集成电路) 级、VL S I (超大规模集成电路) 级和UL S I (特大规模集成电路)级。
4. 外延气体(Cp itax ial gases) ：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD) 的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4 种, 即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅, 主要用于外延硅淀积, 多晶硅淀积, 淀积氧化硅膜, 淀积氮化硅膜, 太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单 晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。
5. 蚀刻气体(Etch ing gases) ：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来, 这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是, 图形边缘整齐, 线条清晰, 图形变换差小, 且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污, 所以其应用范围日益广泛。
6. 掺杂气体(Dopant Gases)：在半导体器件和集成电路制造中, 将某种或某些杂质掺入半导体材料内, 以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率, 用来制造PN结、电阻、埋层等。掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气) 在源柜中混合, 混合后气流连续流入扩散炉内环绕晶片四周, 在晶片表面沉积上化合物掺杂剂, 进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅。
7. 熏蒸气体(Sterilizing Gases) ：具有杀菌作用的气体称熏蒸气体。常用的气体品种有环氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、环氧丙烷等。其灭菌原理是利用烷化作用, 使微生物组织内维持生命不可缺少的物质惰化。最经常使用的是以不同比例配制的环氧乙烷和二氧化碳的混合气, 根据用途不同, 环氧乙烷的含量可以是10 %、20 %和30 %等。也可采用环氧乙烷和氟利昂12 的混合气,环氧乙烷与氟利昂11 和氟利昂12 的混合气等。杀菌效果与各组分浓度、温度、湿度、时间和压力等因素有关。熏蒸气体可以用于卫生材料、医疗器具、化妆品原料、动物饲料、粮食、纸钞、香辣
8. 焊接保护气体(Welding Gases)：气体保护焊由于具有焊接质量好, 效率高, 易实现自动化等优点而得以迅速发展。焊接保护气体可以是单元气体, 也有二元、三元混合气。采用焊接保护气的目的在于提高焊缝质量, 减少焊缝加热作用带宽度, 避免材质氧化。单元气体有氩气、二氧化碳, 二元混合气有氩和氧, 氩和二氧化碳, 氩和氦, 氩和氢混合气。三元混合气有氦、氩、二氧化碳混合气。应用中视焊材不同选择不同配比的焊接混合气。
9. 离子注入气( Gases for Ion Implantation)：离子注入是把离子化的杂质, 例如P + 、B + 、As+加速到高能量状态,然后注入到预定的衬底上。离子注入技术在控制V th(阈值电压) 方面应用得最为广泛。注入的杂质量可通过测量离子束电流而求得。离子注入工艺所用气体称离子注入气, 有磷系、硼系和砷系气体。
10. 非液化气体(Nonliquefied Gases)：压缩气体依据于一定压力和温度下在气瓶中的物理状态和沸点范围可以区分为两大类, 即液化气体和非液化气体。非液化气体系指除溶解在溶液中的气体之外, 在2111 ℃和罐装压力下完全是气态的气体。也可定义为在正常地面温度和13789～17237kPa 压力下不液化的气体。
11. 液化气体( Liquefied Gases )：在2111 ℃和罐装压力下部分液化的气体。或定义为在正常温度和172142～17237kPa 压力下在气瓶中液化的气体。压缩气体(Compressed Gases) 压缩气体是指在2111 ℃下, 在气瓶中绝对压力超过27518kPa 的任何气体或混合物; 或与2111 ℃下的压力无关, 于5414 ℃下绝对压力超过717kPa 的任何气体或混合物; 或于3718 ℃下气体绝对压力超27518kPa 的任何液体。
12. 稀有气体(Rare Gases)：元素周期表最后一族的六种惰性气体中的任何一种气体, 即氦、氖、氩、氪、氙、氡。前五种气体均可以空气分离方法从空气中提取。
13. 低压液化气体(Low P ressu re L iquef ied Gases) ：临界温度大于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃有毒、酸性腐蚀性气体; 可燃无毒和可燃有毒、酸性腐蚀性气体; 易分解或聚合的可燃气体。此类气体在充装时以及在允许的工作温度下贮运和使用过程中均为液态。包括的气体品种有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟环丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光气、氟化氢、溴化氢、二氧化硫、硫酰氟、二氧化氮、液压石油气、丙烷、环丙烷、丙烯、正丁烷、异丁烷、1- 丁烯、异丁烯、顺- 2-丁烯、反- 2- 丁烯、R142b、R 143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、甲硫醇、硫化氢、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1, 3—丁二烯、氯乙烯、环氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。
14. 高压液化气体(H igh P ressu re L iquef iedGases) ：临界温度大于或等于- 10℃且小于或等于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃有毒气体; 可燃无毒和自燃有毒气体; 易分解或聚合的可燃气体。此类气体充装时为液态,但在允许的工作温度下贮运和使用过程中其蒸汽压随温度的升高而升高, 超过临界温度时蒸发为气体。所包括的气体品种有一氧化二氮、二氧化碳、三氟甲烷、三氟氯甲烷、三氟溴甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、氙、氯化氢、乙烷、乙烯、1, 1- 二氟乙烯、硅烷、磷烷、氟乙烯、乙硼烷。