工业制硅怎么提升

㈠ 工业制硅,用什么方法提纯

工业上用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅。用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅可制得高纯度硅。

1.物质的理化常数:
国标编号 81043
CAS号 10026-04-7
中文名称 四氯化硅
英文名称 Silicon tetrachloride
别 名 氯化硅；四氯化矽
分子式 SiCl4 外观与性状 无色或淡黄色发烟液体，有刺激性气味，易潮解
分子量 169.90 蒸汽压 55.99kPa(37.8℃)
熔 点 -70℃ 沸点：57.6℃ 溶解性 可混溶于苯、氯仿、石油醚等多数有机溶剂
密 度 相对密度(水=1)1.48；相对密度(空气=1)5.86 稳定性 稳定
危险标记 20(酸性腐蚀品) 主要用途 用于制取纯硅、硅酸乙酯等，也用于制取烟幕剂

2.对环境的影响:
一、健康危害

侵入途径：吸入、食入、经皮吸收。
健康危害：对眼睛及上呼吸道有强烈刺激作用。高浓度可引起角膜混浊，呼吸道炎症，甚至肺水肿。皮肤接触后可引起组织坏死。

二、毒理学资料及环境行为

急性毒性：LC508000ppm，4小时(大鼠吸入)
危险特性：受热或遇水分解放热，放出有毒的腐蚀性烟气。
燃烧(分解)产物：氯化氢、氧化硅。

3.现场应急监测方法:

4.实验室监测方法:
气相色谱法，参照《分析化学手册》(第四分册，色谱分析)，化学工业出版社

5.环境标准:
前苏联(1975) 车间卫生标准 5mg/m3

6.应急处理处置方法:
一、泄漏应急处理

疏散泄漏污染区人员至安全区，禁止无关人员进入污染区，建议应急处理人员戴自给式呼吸器，穿化学防护服。不要直接接触泄漏物，勿使泄漏物与可燃物质(木材、纸、油等)接触，在确保安全情况下堵漏。喷水雾减慢挥发(或扩散)，但不要对泄漏物或泄漏点直接喷水。将地面洒上苏打灰，然后用大量水冲洗，经稀释的洗水放入废水系统。如果大量泄漏，最好不用水处理，在技术人员指导下清除。

二、防护措施

呼吸系统防护：可能接触其蒸气时，必须佩戴防毒面具或供气式头盔。紧急事态抢救或逃生时，建议佩带自给式呼吸器。
眼睛防护：戴化学安全防护眼镜。
防护服：穿工作服(防腐材料制作)。
手防护：戴橡皮手套。
其它：工作后，淋浴更衣。单独存放被毒物污染的衣服，洗后再用。保持良好的卫生习惯。

三、急救措施

皮肤接触：立即脱去污染的衣着，用流动清水冲洗15分钟。若有灼伤，就医治疗。
眼睛接触：立即提起眼睑，用流动清水冲洗10分钟或用2%碳酸氢钠溶液冲洗。
吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。注意保暖，保持呼吸道通畅。必要时进行人工呼吸。就医。
食入：患者清醒时立即漱口，给饮牛奶或蛋清。立即就医。

灭火方法：干粉、砂土。禁止用水。

㈡ 工业硅冶炼技术

我什么都不懂 希望这些能帮你...工业硅又称结晶硅或金属硅。工业硅的主要用途是作为非铁基合金的添加剂。硅加入到某些有色金属中时，能提高基体金属的强度、硬度和耐磨性，有时还能改善基体的铸造性能和焊接性能。工业硅也用作要求严格的硅钢的合金剂，冶炼特种钢种和非铁基金的脱氧剂。工业硅经一系列工艺处理后，可拉制成单晶硅，供电子工业使用。我国的工业硅贸易 ：进入21世纪以来，我国的工业硅一直出口到近60个国家和地区。2007年我国出口工业硅万t以上的国家和地区就有14个，它们分别是：日本(22.48万t)、香港特区(9.28万t)。韩国(6.04万t)、英国(3.86万t)、泰国(3.74万t)、印度(3.44万t)、加拿大(3.11万t)、荷兰(3.11万t)、德国(2.28万t)、挪威(1.72万t)、俄罗斯(1.52万t)、澳大利亚(1.37万t)、墨西哥(1.31万t)、台湾省(1.13万t)。图2示出2007年中国工业硅出口到世界各个国家和地区的分布情况。

㈢ 工业制取单质硅的方法

工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石（二氧化硅含量大于99%）。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（二氧化硅大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。

高纯的半导体硅可在1，200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅制得。超纯的单晶硅森春可通过直拉法或区域熔炼法等制备。实验室里可用镁粉在赤热下还原亮春伏粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。

(3)工业制硅怎么提升扩展阅读

硅的应用领域：

1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半导体；掺入微量的第VA族元素，形成n型半导体。

2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。将陶瓷和金属混合烧结，制成金属陶瓷复合材料，它敬携耐高温，富韧性，可以切割，既继承了金属和陶瓷的各自的优点，又弥补了两者的先天缺陷。

3、光导纤维通信，最新的现代通信手段。用纯二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纤维。激光可在玻璃纤维的通路里，发生无数次全反射而向前传输，代替了笨重的电缆。

㈣ 请写出工业上获取粗硅及粗硅提纯的化学方程式

1，
工业制取粗硅的化学方程式是工业上用二氧化硅和碳高温反应生成粗硅和一氧化碳
sio2+2c=si+co↑（反应条件是高温）这里sio2是氧化剂，c是还原剂。
但是焦炭不能过多,否则会与硅化合生成碳化硅
si+c=sic粗硅提纯:si+2cl2=sicl4
sicl4+2h2=4hcl+si

㈤ 如何提纯硅

一般来说,工业制取高纯单晶硅主要采用以下方法：
①首先由石英砂和焦炭在电弧炉中制取纯度较低的粗硅
SiO2+2C==(3273K)Si+2CO↑
②然后将粗硅转化为有挥发性并易提纯的四氯化硅或三氯氢硅
Si+2Cl2==（723~773K）SiCl4
Si+3HCl==(523~573K)SiHCl3+H2↑
③再用精馏法提纯SiCl4或SiHCl3,在电炉中用氢气还原,得到纯度较高的硅
SiCl4+2H2==(加热)Si+4HCl
④最后我们用区域熔融法进一步提纯并制成高纯单晶硅

㈥ 工业制硅用什么方法！

高纯硅的制取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分馏提纯SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl

㈦ 怎样制备高纯硅

高纯硅的制备一般首先由硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的多晶硅，最后拉制成半导体材料硅单晶。
工业上是用硅石（SiO2）和焦炭以一定比例混合，在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅，其反应如下：SiO2+2C=Si+2CO
粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质，这些杂质多以硅化构成硅酸盐的形式存在，为了进一步提高工业粗硅的纯度，可采用酸浸洗法，使杂质大部分溶解（有少数的碳化硅不溶）。其生产工艺过程是：将粗硅粉碎后，依次用盐酸、王水、（HF+H2SO4）混合酸处理，最后用蒸馏水洗至中性，烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。
高握脊脊纯多晶硅的制备方法很多，据布完全统计有十几种，但所有的方法都是从工业硅（或称硅铁，因为含铁较多）开始，首先制取既易提纯又易分解（即还原）的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等，再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的多晶硅
目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。一般说来，由于三氯氢硅还原法具有一定优点，目前比较广泛的被应用。此外，由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅的很有发展潜力的方法。下面我们就分别介绍上述三种方法制备高纯硅的化学原理。
1.
三氯氢硅还原法
（1）
三氯氢硅的合成
第一步：由硅石制取粗硅
硅石（SiO2）和适量的焦炭混合，并在电炉内加热至1600~1800℃
可制得纯度为95%~99%的粗硅。其反应式如下：
SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑
2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑
总反应式：
SiO2+2C=Si+2CO（g）↑
生成的硅由电炉底部放出，浇铸成锭。用此法生产的粗硅经酸处理后，其纯度可达到99.9%。
第二步：三氯氢硅的合成
三氯氢硅是由干燥的氯化氢气体和粗硅粉在合成炉中（250℃）进行合成的。其主要反应式如下：Si+3HCl=SiHCl3+H2（g）
（2）
三氯氢硅的提纯
由合成炉中得到的三氯氢硅往往混有硼、磷、砷、铝等杂质，并且它们是有害杂质，对单晶硅质量影响极大，必须设法除去。
近年来三氯氢硅的提纯方法发展很快，但由于精馏法工艺简单、操作方便，所以，目前工业上主要用精馏法。三氯氢硅精馏是利用三氯氢硅与杂质氯化物的沸点不同而分离提纯的。
一般合成的三氯氢硅中常含有三氯化硼（BCl3）、三氯化磷（PCl3）、四氯化硅（SiCl4）、三氯化砷（AsCl3）、三氯化铝（Al2Cl3）等氯化物。其中绝大多数氯化物的沸点与三氯氢硅相差较大，因此通过精馏的方法就可段渗以将这些杂质除去。但三氯化硼和三氯化磷的沸点与三氯氢硅相近，较难分离，故需野蔽采用高效精馏，以除去这两种杂质。精馏提纯的除硼效果有一定限度，所以工业上也采用除硼效果较好的络合物法。
三氯氢硅沸点低，易燃易爆，全部操作要在低温下进行，一般操作环境温度不得超过25℃，并且整个过程严禁接触火星，以免发生爆炸性的燃烧。
（3）
三氯氢硅的氢还原
提纯三氯氢硅和高纯氢混合后，通入1150℃还原炉内进行反应，即可得到硅，总的化学反应是：SiHCl3+H2=Si+3HCl
生成的高纯多晶硅淀积在多晶硅载体上。

㈧ 工业制取单质硅的方法

工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅，一般在高温下利用强还原剂去还原SiO2来得到单质硅。如：SiO2+2C
Si+2CO↑。但该反应只能得到纯度不高的硅，这种硅不能用作半导体材料，也不能用于制造硅整流器等，因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现：Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(纯)+4HCl

㈨ 工业上制取硅单质的方法是写出化学方程式.

高温,焦炭还原石英砂中的二氧化硅：
SiO2+2C=（高温）Si+2CO,
此时制得的硅,含有杂质,叫粗硅,还要进行精制,
Si+2Cl2=SiCl4
SiCl4+2H2=Si+4HCl,
这样就可以得到较纯的硅.

㈩ 工业生产硅的原理

工业上，通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。
化学反应方程式：
SiO2
+
2C
→
Si
+
2CO
这样制得的硅纯度为97~98%，叫做金属硅。再将它融化后重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。