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工业制硅怎么提取

发布时间:2022-12-23 21:08:28

Ⅰ 工业制硅,用什么方法提纯

工业上用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅。用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅可制得高纯度硅。

1.物质的理化常数:
国标编号 81043
CAS号 10026-04-7
中文名称 四氯化硅
英文名称 Silicon tetrachloride
别 名 氯化硅;四氯化矽
分子式 SiCl4 外观与性状 无色或淡黄色发烟液体,有刺激性气味,易潮解
分子量 169.90 蒸汽压 55.99kPa(37.8℃)
熔 点 -70℃ 沸点:57.6℃ 溶解性 可混溶于苯、氯仿、石油醚等多数有机溶剂
密 度 相对密度(水=1)1.48;相对密度(空气=1)5.86 稳定性 稳定
危险标记 20(酸性腐蚀品) 主要用途 用于制取纯硅、硅酸乙酯等,也用于制取烟幕剂

2.对环境的影响:
一、健康危害

侵入途径:吸入、食入、经皮吸收。
健康危害:对眼睛及上呼吸道有强烈刺激作用。高浓度可引起角膜混浊,呼吸道炎症,甚至肺水肿。皮肤接触后可引起组织坏死。

二、毒理学资料及环境行为

急性毒性:LC508000ppm,4小时(大鼠吸入)
危险特性:受热或遇水分解放热,放出有毒的腐蚀性烟气。
燃烧(分解)产物:氯化氢、氧化硅。

3.现场应急监测方法:

4.实验室监测方法:
气相色谱法,参照《分析化学手册》(第四分册,色谱分析),化学工业出版社

5.环境标准:
前苏联(1975) 车间卫生标准 5mg/m3

6.应急处理处置方法:
一、泄漏应急处理

疏散泄漏污染区人员至安全区,禁止无关人员进入污染区,建议应急处理人员戴自给式呼吸器,穿化学防护服。不要直接接触泄漏物,勿使泄漏物与可燃物质(木材、纸、油等)接触,在确保安全情况下堵漏。喷水雾减慢挥发(或扩散),但不要对泄漏物或泄漏点直接喷水。将地面洒上苏打灰,然后用大量水冲洗,经稀释的洗水放入废水系统。如果大量泄漏,最好不用水处理,在技术人员指导下清除。

二、防护措施

呼吸系统防护:可能接触其蒸气时,必须佩戴防毒面具或供气式头盔。紧急事态抢救或逃生时,建议佩带自给式呼吸器。
眼睛防护:戴化学安全防护眼镜。
防护服:穿工作服(防腐材料制作)。
手防护:戴橡皮手套。
其它:工作后,淋浴更衣。单独存放被毒物污染的衣服,洗后再用。保持良好的卫生习惯。

三、急救措施

皮肤接触:立即脱去污染的衣着,用流动清水冲洗15分钟。若有灼伤,就医治疗。
眼睛接触:立即提起眼睑,用流动清水冲洗10分钟或用2%碳酸氢钠溶液冲洗。
吸入:迅速脱离现场至空气新鲜处。注意保暖,保持呼吸道通畅。必要时进行人工呼吸。就医。
食入:患者清醒时立即漱口,给饮牛奶或蛋清。立即就医。

灭火方法:干粉、砂土。禁止用水。

Ⅱ 工业制取单质硅的方法

工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅,一般在高温下利用强还原剂去还原SiO
2
来得到单质硅。如:SiO
2
+2C
Si+2CO↑。
但该反应只能得到纯度不高的硅,这种硅不能用作半导体材料,也不能用于制造硅整流器等,因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现:
Si(粗)+2Cl
2
=SiCl
4
SiCl
4
+2H
2
=Si(纯)+4HCl

Ⅲ 工业上制取粗硅的化学方程式是什么

SiO₂+2C=Si+2CO↑(反应条件是高温)

工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时,能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低,采用质量高的硅石,可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。

高纯的半导体硅可在1,200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅SiHCl3或SiCl4制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。

(3)工业制硅怎么提取扩展阅读:

用镁还原二氧化硅可得无定形硅。用碳在电炉中还原二氧化硅可得晶体硅。电子工业中用的高纯硅则是用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅而制得。

实验室制取:

实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅,用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉,再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅,即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅,为棕黑色粉末。

应用领域:

1、由于有机硅独特的结构,兼备了无机材料与有机材料的性能,具有表面张力低、粘温系数小、压缩性高、气体渗透性高等基本性质,并具有耐高低温、电气绝缘、耐氧化稳定性、耐候性、难燃、憎水、耐腐蚀、无毒无味以及生理惰性等优异特性。

广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工、医疗等行业,其中有机硅主要应用于密封、粘合、润滑、涂层、表面活性、脱模、消泡、抑泡、防水、防潮、惰性填充等。

随着有机硅数量和品种的持续增长,应用领域不断拓宽,形成化工新材料界独树一帜的重要产品体系,许多品种是其他化学品无法替代而又必不可少的。

2、硅可以提高植物茎秆的硬度,增加害虫取食和消化的难度。尽管硅元素在植物生长发育中不是必需元素,但它也是植物抵御逆境、调节植物与其他生物之间相互关系所必需的化学元素。

硅在提高植物对非生物和生物逆境抗性中的作用很大,如硅可以提高植物对干旱、盐胁迫、紫外辐射以及病虫害等的抗性。硅可以提高水稻对稻纵卷叶螟的抗性,施用硅后水稻对害虫取食的防御反应迅速提高,硅对植物防御起到警备作用。

水稻在受到虫害袭击时,硅可以警备水稻迅速激活与抗逆性相关的茉莉酸途径,茉莉酸信号反过来促进硅的吸收,硅与茉莉酸信号途径相互作用影响着水稻对害虫的抗性。

Ⅳ 如何提纯硅

一般来说,工业制取高纯单晶硅主要采用以下方法:
①首先由石英砂和焦炭在电弧炉中制取纯度较低的粗硅
SiO2+2C==(3273K)Si+2CO↑
②然后将粗硅转化为有挥发性并易提纯的四氯化硅或三氯氢硅
Si+2Cl2==(723~773K)SiCl4
Si+3HCl==(523~573K)SiHCl3+H2↑
③再用精馏法提纯SiCl4或SiHCl3,在电炉中用氢气还原,得到纯度较高的硅
SiCl4+2H2==(加热)Si+4HCl
④最后我们用区域熔融法进一步提纯并制成高纯单晶硅

Ⅳ 请写出工业上获取粗硅及粗硅提纯的化学方程式

1,
工业制取粗硅的化学方程式是工业上用二氧化硅和碳高温反应生成粗硅和一氧化碳
sio2+2c=si+co↑(反应条件是高温)这里sio2是氧化剂,c是还原剂。
但是焦炭不能过多,否则会与硅化合生成碳化硅
si+c=sic粗硅提纯:si+2cl2=sicl4
sicl4+2h2=4hcl+si

Ⅵ 工业制取单质硅的方法

工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅,一般在高温下利用强还原剂去还原SiO2来得到单质硅。如:SiO2+2C
Si+2CO↑。但该反应只能得到纯度不高的硅,这种硅不能用作半导体材料,也不能用于制造硅整流器等,因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现:Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(纯)+4HCl

Ⅶ 工业制硅用什么方法!

高纯硅的制取:SiO2+2CSi+2CO↑(制粗硅)Si (粗硅)+2Cl2SiCl4(分馏提纯SiCl4)SiCl4+2H2Si+4HCl

Ⅷ 实验室提纯硅 写化学方程式就行

先用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅.用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅可制得高纯度硅.
Si+4HCl==高温==SiCl4+2H2
SiCl4+2H2==高温==Si+4HCl
请先看一下过程
纯净的硅(Si)是从自然界中的石英矿石(主要成分二氧化硅)中提取出来的,分几步反应:
1.二氧化硅和炭粉在高温条件下反应,生成粗硅:
SiO2+2C==Si(粗)+2CO
2.粗硅和氯气在高温条件下反应生成氯化硅:
Si(粗)+2Cl2==SiCl4
3.氯化硅和氢气在高温条件下反应得到纯净硅:
SiCl4+2H2==Si(纯)+4HCl
以上是硅的工业制法,在实验室中可以用以下方法制得较纯的硅:
1.将细砂粉(SiO2)和镁粉混合加热,制得粗硅:
SiO2+2Mg==2MgO+Si(粗)
2.这些粗硅中往往含有镁,氧化镁和硅化镁,这些杂质可以用盐酸除去:
Mg+2HCl==MgCl2+H2
MgO+2HCl==MgCl2+H2O
Mg2Si+4HCl==2MgCl2+SiH4
3.过滤,滤渣即为纯硅

Ⅸ 简单介绍硅的制取。

工业上,通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。
化学反应方程式:
SiO2
+
2C

Si
+
2CO
这样制得的硅纯度为97~98%,叫做金属硅。再将它融化后重结晶,用酸除去杂质,得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅,还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式,再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅,则需要进行进一步的提纯处理。
详细资料:http://ke..com/view/4748.htm

Ⅹ 工业上制取硅单质的方法是写出化学方程式.

高温,焦炭还原石英砂中的二氧化硅:
SiO2+2C=(高温)Si+2CO,
此时制得的硅,含有杂质,叫粗硅,还要进行精制,
Si+2Cl2=SiCl4
SiCl4+2H2=Si+4HCl,
这样就可以得到较纯的硅.

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