① 工业上生产硅采用的是什么方法
制备
工业上，通常是在电炉中由碳还原二氧化硅而制得。
化学反应方程式：
SiO2
+
2C
→
Si
+
2CO
这样制得的硅纯度为97~98%，叫做金属硅。再将它融化后重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7~99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。
② 工业制取单质硅的方法
工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅，一般在高温下利用强还原剂去还原SiO2来得到单质硅。如：SiO2+2C
Si+2CO↑。但该反应只能得到纯度不高的硅，这种硅不能用作半导体材料，也不能用于制造硅整流器等，因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现：Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(纯)+4HCl
③ 硅的工业制取法和硅酸盐的运用
硅的工业制法:二氧化硅+2C=Si+2CO↑条件:高温....常用的硅酸盐是硅酸钠,易溶于水,俗名“水玻璃”,显碱性,有黏稠性,可用作防火剂,黏胶剂;另外硅酸盐产品还有陶瓷、玻璃、水泥等无机非金属材料...
④ 工业上制取硅单质的方法是写出化学方程式。
高温，焦炭还原石英砂中的二氧化硅：
SiO2+2C=（高温）Si+2CO，
此时制得的硅，含有杂质，叫粗硅，还要进行精制，
Si+2Cl2=SiCl4
SiCl4+2H2=Si+4HCl，
这样就可以得到较纯的硅。
⑤ 在工业上制备单质硅的化学方程式
第一种。
SiO2 + 2C = Si + 2CO↑
Si + 2Cl2 = SiCl4
SiCl4 + 2H2 = Si +HCl
条件都是高温
第二种.
将细砂粉（SIO2）与镁粉混和，制得粗硅。这种粗硅往往含有过量的镁氧化镁和硅化镁，可用盐酸除去。
SIO2+2MG=SI+2MGO(条件：高温) 2MG+SI=MG2SI （条件：高温)
mg+2hcl=mgcl2+h2 mgo+2hcl=mgcl2+h2o
mg2si+4hcl=2mgcl2+sih4
⑥ 硅的主要制备方法
实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅，为棕黑色粉末。工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石（SiO2含量大于99%）。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（SiO2大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。高纯的半导体硅可在1，200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅SiHCl3或SiCl4制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。 用镁还原二氧化硅可得无定形硅。用碳在电炉中还原二氧化硅可得晶体硅。电子工业中用的高纯硅则是用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅而制得。
⑦ 工业制硅用什么方法！
高纯硅的制取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分馏提纯SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl
⑧ 写出工业制硅的化学方程式
工业制硅化学方程式：
2c+sio2==高温==2co+si（得到粗硅）
si+2cl2==sicl4
2h2+sicl4==高温==si+4hcl（得到精硅）
⑨ 工业制硅的化学方程式
SiO2+2C=Si(粗硅)+2CO Si+3HCl=SiHCl3+H2 SiHCl3+H2=Si+3HCl 后面是粗硅的精炼
⑩ 工业制取单质硅的方法
工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅，一般在高温下利用强还原剂去还原SiO
2
来得到单质硅。如：SiO
2
+2C
Si+2CO↑。
但该反应只能得到纯度不高的硅，这种硅不能用作半导体材料，也不能用于制造硅整流器等，因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现：
Si(粗)+2Cl
2
=SiCl
4
SiCl
4
+2H
2
=Si(纯)+4HCl