工业抛光粉的作用是什么

1. 白刚玉抛光粉作用及抛光方法

抛光指的是利用一些抛光工具或者是磨料或者是其他的可以用来抛光的介质，对物体表面进行修饰加工，以达到加工件表面的粗糙度降低，变得平整光洁的目的。抛光仅仅是为了使加工件表面变得光洁平整，并不能对加工件的尺寸精度和几何形状精度进行改变。

白刚玉抛光粉的抛光方法：

1、化学抛光：化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。此抛光方法白刚玉砂在抛光液中配比需要严格控制。

2、电解抛光：靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。

3、流体抛光：流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物并掺上白刚玉微粉制成。

4、磁研磨抛光：磁研磨抛光是利用磁性绿碳化硅在磁场作用下形成白刚玉砂，然后用磨光片对工件磨削加工。

5、机械抛光：机械抛光是靠切削材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法。

2. 抛光粉的现状应用

背景情况
铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如Fe2O3红粉）的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。
1.1 发展过程
红粉（氧化铁）是历史上最早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中，一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为200吨以上者）。其中，法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年，我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料，研制成功不同类型稀土抛光粉。北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于1976年研制并推广了739型稀土抛光粉，1977年又研制成功了771型稀土抛光粉。1979年甘肃稀土公司研制成功了797型稀土抛光粉。目前国内已有14个稀土抛光粉生产厂家（年生产能力达30吨以上者），最大的一家年生产能力为2220吨（包头天骄清美稀土抛光粉有限公司）。但与国外相比仍有较大差距，主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定，未能达到标准化、系列化，还不能完全满足各种工业领域的抛光要求，因此必须迎头赶上。
1.2组成分类
1.2.1 以稀土抛光粉中CeO2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是CeO2，据其CeO2量的高低可将铈抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一类是CeO2含量低的廉价的低铈抛光粉，其铈含量在50%左右，或者低于50%，其余由La2O3，Nd2O3，Pr6O11组成。
对于高铈抛光粉来讲，氧化铈的品位越高，抛光能力越大，使用寿命也增加，特别是硬质玻璃长时间循环抛光时(石英、光学镜头等)，以使用高品位的铈抛光粉为宜。
低铈抛光粉一般含有50%左右的CeO2，其余50%为La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等碱性无水硫酸盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高铈抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高铈抛光粉低。
1.2.2以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分：
稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度最大。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级(1nm～100nm);亚微米级(100nm～1μm);微米级(1μm～100μm)，据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1μm～10μm之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的最后工序，进行精磨，因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。
纳米级稀土抛光粉已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但市场份额还很小，属于研发阶段。
1.3 生产原料
我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：
(1)氧化铈(CeO2)，由混合稀土盐类经分离后所得(w(CeO2)=99%)；
(2)混合稀土氢氧化物(RE(OH)3)，为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；
(3)混合氯化稀土(RECl3)，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；
(4)高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。
以上原料中除第1种外，第2，3，4种均含轻稀土(w(REO)≈98%)，且以CeO2为主，w(CeO2)为48%～50%。我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4 主要生产工艺及设备
1.4.1 高铈系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→高级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有：煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。
主要指标：产品中w(REO)=99%，w(CeO2)=99%；稀土回收率约95%；平均粒经1μm～6μm(或粒度为200目～300目)，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。
1.4.2中铈系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%～85%的中级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
主要指标：产品中w(REO)=90%，w(CeO2)=80%～85%；稀土回收率约95%;平均粒度0.4μm～1.3μm。该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。
1.4.3 低铈系稀土抛光粉的制备
以少铕氯化稀土(w(REO)≥45%，w(CeO2)≥48%)为原料，以合成中间体(沉淀剂)进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料→溶解→复盐沉淀→过滤洗涤→高温煅烧→粉碎→细磨筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。
主要指标：产品中w(REO)=85%～90%，w(CeO2)=48%～50%；稀土回收率约95%；平均粒径0.5μm～1.5μm(或粒度320目～400目)。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。
用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为：
原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标:产品中w(REO)≥95%，w(CeO2)≥50%；稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm～2.5μm。该产品适合于眼镜片、电视机显像管的高速抛光之用。
国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多，约占总产量的90%以上。
1.5 应用
由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
1.6 市场
在稀土抛光粉的消费中，日本是最大的消费者，每年约生产3550吨～4000吨抛光粉，产值35亿～40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。其中最大的抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，平面显示产品产量迅速增加，对铈基抛光粉的需求量也迅速增加。日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%。90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术、设备向海外转移，如:日本清美化学从1989年开始,在海外生产阴极射线管用铈基抛光粉。1989年在台湾建立了一家独资企业，1990年投入生产，生产能力每年1000吨。1997年又与我国包头钢铁公司合资在包头建立了一家专门生产彩电阴极射线管、电子管和平板玻璃抛光用抛光粉的企业。设计能力为每年1200吨，所用原料为高品位氟碳铈矿和富铈碳酸稀土。因此，新日本金属化学公司的阴极射线管用抛光粉因受来自中国大陆和台湾大量低价抛光粉的冲击也有意从事用于液晶显示用高性能抛光粉的生产。东北金属化学公司计划从事光学镜头和液晶显示屏用抛光粉的生产。
高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。
中铈系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高铈粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%，抛光速率提高35%，制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%。目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。
低铈系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和C－1型适用于电视机显像管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；H－500型和877型适用于电视机显像管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照相机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量最多，约占国内总用量85%以上。
1.7、结束语
我国的稀土抛光粉行业从无到有，从小到大，已走过了近50年的历史。目前我国在生产、应用、市场和技术设备等方面已取得很大的成就和发展，在世界同行业中已占主导地位，并成为世界稀土抛光粉的生产和供应大国。今后要加快技术设备的创新，提高生产水平。要加速产品标准化和系列化的进程，要增加新品种，提高产品质量，努力提高产品出口量，占领国际市场。

3. 稀土抛光粉的种类及应用有哪些

在工业领域，抛光粉是重要的研磨抛光材料，根据不同的性质，抛光粉可以分为无机抛光粉、金属抛光粉和塑料抛光粉等。稀土抛光粉是无机抛光粉中的一类，具有粉体粒度均匀、抛光质量好效率高、使用量少、寿命长、易清洗，对环境不易造成污染等优点，被人们广泛应用在液晶显示类产品的抛光加工中。同时，与其它的稀土抛光粉相比，稀土抛光粉产品中的饰基抛光粉抛光效率更高，抛光表面更为光滑，被人们称为“抛光粉之王”，是一类重要的稀土抛光粉产品，具有很好的发展前景。以下我们重点讨论饰基稀土抛光粉的分类。对于饰基稀土抛光粉，氧化铈抛光粉的含量、微观形貌、晶型结构、以及粉体的粒度分布都对抛光粉的性能起决定性的影响作用，因此，我们通常按照稀土抛光粉中氧化铈抛光粉含量以及粉体的粒度和粒度分布来对饰基稀土抛光粉进行分类。饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉,饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉，其中氧化铈抛光粉也是在抛光过程中起主要作用的物质，所以根据氧化铈抛光粉量的高低我们将钵基稀土抛光粉划分为高饰稀土抛光粉、中饰稀土抛光粉、低饰稀土抛光粉这三大类别。
高饰稀土抛光粉，CeO2含量99%, REO>98%，平均粒度在1μm-6μm。此类产品包括有A-8型，饰粉型，高饰品一1型三个品种。高饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味极高，抛光性能好，寿命长，在国内主要应用于硬质玻璃如精密光学镜头和石英的高速、长时间循环抛光。其生产工艺大致分为:1、由氯化稀土加工出的氢氧化饰产物为原材
料的制备工艺，2、以氟碳饰矿锻烧加工出的富饰产物为原材料的制备工艺。高饰稀土抛光粉的生产成本和价格较高，国内使用量较小。
中饰稀土抛光粉，氧化铈抛光粉约80%^-85%, REO为90%，平均粒度在0.4μm-1.3μm,产品含氟量3%-6%。此类产品包括有739型一个品种。中饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味较高，相对于高饰稀土抛光粉，所需浆液浓度在降低10%时，抛光工艺中所需的速率将提高30%，使用的抛光粉寿命能增加35%，得到抛光品表面的光洁度更能提高一个等级，此类产品较适用于对中等精度中小球面的光学镜头的抛光。对于中饰稀土抛光粉，在我国的产量及用量都不是很大，有待于继续开发。
低饰稀土抛光粉，又称为饰组混合稀土抛光粉。氧化铈抛光粉约48%-50%, RE085%一95%，平均粒度在0.4μm-1.3μm，其中有些产品如797, 877型含氟4%-8%，此类产品包括有771, 795, 797, 817, 877, C-1和H-500型等共10个品种。低饰稀土抛光粉的CeO2品味较低，初始抛光能力与高级饰系稀土抛光粉相比几乎差不多，但使用寿命短，此类产品中的771型应用在光学镜片、金属制品的抛光;797型应用在电视机显像管、平板玻璃等的抛光。低饰稀土抛光粉的生产成本低，价格便宜。http://www.dgmingkang.com/news_content-512538.html

4. 抛光粉怎么用

抛光粉的抛光机理和抛光粉的机理一样,都是使用抛光机和抛光粉与光学玻璃之间摩擦,从而使光学玻

璃表面达到工艺要求的平整度.抛光机抛光是指在抛光粉的作用下，使其表面性能提高达到足够的光滑度，从而

减小表面不规则的影响对光的透射或反射造成的不良影响。抛光工艺过程是一个复杂的过程，对其抛光机理的

解释都差不多，总结起来有以下四大学说:
(1)纯物理学说:即玻璃表面的凹凸层受到机械磨削作用而被磨除，出现了一定的流动和塑性变形，在此过

程中，机械摩擦产生的热量促使玻璃的表面呈现软化现象。纯物理学认为，抛光工艺过程其本质就是玻璃表层

元素分子重新排布和组合，从而产生一个新的平整的表面的过程.
(2)化学学说:化学学说认为，抛光工艺过程其本质就是抛光所使用的原料和器具之间相互作用，产生化学

变化，使得玻璃的表层的不平整面被磨除.
(3)物理化学作用的综合学说。抛光工艺过程属于化学机械抛光(CMP )，集机械磨削作用和化学腐蚀作用于

一体，目前这一学说受到了大多数抛光粉研究者的认可。氧化铈抛光粉在抛光过程中会出现两种作用一胶体化

学作用和机械作用;首先是氧化铈磨除玻璃表层的不平整面，使得玻璃表层显现抛光面，在这期间我们认为机械

摩擦起到了主要作用。然后在抛光所使用的原料和器具之间相互化学作用下，玻璃表层开始形成软化层，它是

与抛光模具作用，由摩擦热形成的塑形流动而成的软化层，又是同水溶剂作用，由水解形成的硅酸凝胶层。
(4)流变作用学说:流变作用学说认为抛光过程是玻璃表面分子破碎并重新分布而形成平整表面的过程，即

热软化以致熔融而产生流动，或是摩擦热使玻璃表面产牛塑性夺形和流动。

5. 玻璃抛光粉如何使用

使用玻璃抛光粉前的准备工作和使用方法
玻璃表面清洁及玻璃抛光前的准备工作：
1、先将要修复的玻璃边缘周围用胶带围住，以免玻璃抛光时弄脏汽车与周围环境。
2、认真清洁玻璃以及玻璃抛光砂纸的表面, 不能有任何灰尘、沙子等附着。
3、在玻璃抛光前，先用记号笔在玻璃背后圈出要抛光修复的部位，避免挪位造成抛光面积过大。
目前主要使用的玻璃抛光的方法：
1、火抛光，利用火焰对玻璃表面进行软化以及火力对玻璃的冲击，可以解决玻璃制品表面一些料纹但是处理后的玻璃表面平整度会有所降低。一般的空心器皿玻璃切割后口部比较粗糙可用此法抛光。
2、抛光粉抛光，利用抛光粉对玻璃表面的高速摩擦来祛除划痕，檫毛等等，能够最大限度的提高玻璃的透光性和折射效果!在抛光前要先对抛光的部位进行砂带打磨，纯平面应用400目以上的金刚砂磨盘打磨。此种抛光方法的运用工具和材料很多，但效果最好的还是羊毛轮+氧化铈(俗名、稀土抛光粉)。
3、酸抛光，利用酸对玻璃的腐蚀作用进行玻璃的表面处理，在抛光前同样需要对玻璃的表面使用砂带打磨，因为酸抛光可以将玻璃的厚度削减很多，但是并不一定能够全部的去除玻璃的纹路。它的配方根据玻璃材质的不同而转变。

6. 请问一般抛光要用到抛光粉吗抛光产品它有什么作用

抛光粉主要用于精光研磨，切削力量低，光泽度高，东莞广盛源抛光粉作业后工件表面达到精光效果。

7. 稀土抛光粉的用途

用来对被加工件的抛光处理，抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

8. 稀土抛光粉的用途有哪些

应用行业：特别适用于大理石、水磨石、石灰石等含钙量多的石材，也适用于花岗岩表面的高光、晶面、防护处理，处理后的板材表面晶莹剔透、色彩饱满、光泽度高、板面硬度提高、耐磨损、耐粉化不易褪光。
使用用法：1、本品最佳使用效果的三个前提：地面平整、干净、干燥。2、取本品抛光粉末加水调成浆料，比例为1：1-2，直接抛干，即可达到晶莹透亮的效果,也可湿抛.

9. 氧化铈抛光粉可以用于什么方面的

氧化铈稀土抛光粉的应用，主要是稀土的应用，其应用如下： 氧化铈稀土抛光粉在行业中的应用众所周知,具有抛光光洁度高、速度快和使用寿命长等优点，和以前的抛光粉铁红粉相比，具有易于从沾着物上除去,不污染环境等优势。用氧化铈稀土抛光粉抛光光学玻璃镜片，抛光时间只需一分种左右，和以往30多分种的抛光粉相比较,其效率足足提高30倍多,而且由于稀土氧化铈具有颗粒微小,均匀度高,悬浮度高的特点,其用量也少。所以，稀土抛光粉具有抛光速度快,抛光效率高以及用量少的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。 氧化铈稀土抛光粉在光学玻璃中的作用 2,玻璃脱色作用: 大多数光学玻璃里都含有氧化铁，它能通过原料、砂子、石灰石和玻璃配料中的碎玻璃带入玻璃，其存在形式有两种：一种是使玻璃颜色变成深蓝的二价铁，另一种使玻璃颜色变成黄色的三价铁，脱色就是把二价铁离子氧化成三价铁，因为三价铁的色调强度只有二价铁的十分之一。然后添加补色剂，把颜色中和成浅绿色。 用于玻璃脱色的稀土元素主要是氧化铈和氧化钕。稀土玻璃脱色剂取代传统使用的白砒脱色剂，不仅提高效率，而且还避免了白砒的污染。氧化铈用于玻璃脱色具有高温性能稳定、价格低廉和不吸收可见光等优点 2,稀土抛光作用: 一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物，是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。目前我国有稀土抛光粉厂几十家，生产规模上百吨的十余家。 3,稀土澄清剂作用: 采用氧化铈代替传统的氧化砷作玻璃澄清剂，清除气泡和微量带色元素，在制备无色玻璃瓶时效果显着，成品晶荧洁白、透明度好、玻璃强度和耐热性提高。同时还消除了砷对环境和玻璃的污染。 另外，氧化铈添加在日用玻璃，如建筑和汽车用玻璃，水晶玻璃，能减少紫外线的透光率，该用途在日本和美国已推广使用。在我国随着生活质量的提高，也会有较好的市场。氧化钕添加在显像管玻壳中，可消除红色光的色散，增加了清晰度。添加稀土的特种玻璃有：镧玻璃具有高折射、低色散特性，广泛用于制造各种透镜和高级照相机、摄像机镜头，尤其是高空摄影装置的镜头；铈防辐射玻璃，用于汽车玻璃和电视玻壳；钕玻璃用于激光材料，是巨型激光器最理想的材料，主要用于受控核聚变装置。 4,在燃料电池中可以得到一定应用: 稀土元素的性质决定于稀土原子和稀土离子的电子结构特点。稀土元素的性质是与稀土元素在自然界中的存在和分布形式、稀土元素分离的方法以及稀土元素在各方面广泛应用密切相关的。为了更好地理解稀土元素分离和应用的原理，我们有必要先来研究一下稀土元素（金属和+3价离子）的物理和化学性质。稀土元素都是典型的金属，一般呈银灰色，其金属光泽介于铁和银之间。其中某些可以形成带颜色的盐的金属略具淡黄色（如镨、钕等）。稀土金属质地柔软，如铈和镧同锡一样柔软，但随着原子序数增大而有逐渐变硬的趋势。稀土金属具有延展性，其中铈、钐、镱延展性良好，例如铈能很好地轧成薄片抽成细丝。大部分稀土金属呈紧密六方晶格或面心立方晶格结构，只有钐为菱形结构，铕为体心立方结构。稀土金属（除铕、镱外）的密度和稀土金属（除镧、铕、镱外）的熔点都随着原子序数的增加而增加。就其密度而言，以钪为最小、钇次之，而铥和镥最大，这与它们的原子半径的变化趋势相一致。它们的沸点，镱最低，镧和铈最高。 5,玻璃着色作用: 稀土离子在高温下具有稳定而鲜艳的颜色，用来掺入料液中，制造各种颜色的玻璃。钕、镨、铒、铈等稀土氧化物都是极佳的玻璃着色剂，当添加稀土着色剂的透明玻璃吸收波长为400～700纳米的可见光时，呈现出美丽的彩色。用这些彩色玻璃可以制作航空航海、各种交通工具的指示灯罩及各种高级艺术装饰品。 氧化钕加入钠－钙玻璃和铅玻璃中，玻璃颜色的深浅取决于玻璃的厚度和钕的含量以及光源的强弱，薄玻璃呈淡粉红色，厚玻璃呈兰紫色，这种现象称为钕的双色性；氧化镨产生一种类似于铬的绿色；氧化铒用在光致变色玻璃和水晶玻璃中呈粉红色；氧化铈和二氧化钛结合使用，使玻璃呈黄色；氧化镨和氧化钕可用于镨钕黑玻璃。 来自：