工业制硅需要多少木头

1. 工业制硅用什么方法！

高纯硅的制取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分馏提纯SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl

2. 硅含量98.5%以上的石英砂怎样加工成高纯硅，求价格

石英砂是从150-350的都有

3. 工业硅的工业硅冶炼的原料

冶炼工业硅的原料主要有硅石、碳质还原剂。由于对工业硅中铝、钙、铁含量限制严格，对原料的要求也特别严格。硅石中SiO2>99.0%，Al2O3<0.3%，Fe2O3<0.15%，CaO<0.2%，MgO<0.15%；粒度为15～80mm。选择碳质还原剂的原则是：固定碳高，灰分低，化学活性好。通常是采用低灰分的石油焦或沥青焦作还原剂。但是，由于这两种焦炭电阻率小，反应能力差，因而必须配用灰分低，电阻率大和反应能力强的木炭（或木块）代替部分石油焦。为使炉料烧结，还应配入部分低灰分烟煤。必须指出，过多或全部用木炭，不但会提高产品成本，而且还会使炉况紊乱，如因料面烧结差而引起刺火塌料、难以形成高温反应区、炉底易开成SiC层、出铁困难等。

4. 硅的制作方法是什么

我给你方程式：
从硅的纯侍薯氧化物中制取硅
单质
SiO2
+2C=
高温电炉
=Si+2CO↑
石做者英砂谈搏
焦炭
粗硅
Si(粗)+2CL2=加热=
SiCl4
SiCl4+2H2=高温=Si(纯)+4HCl
就是这样，你能明白吗？
谢谢采纳

5. 制造单晶硅需要什么样的原料

（1）

硅的主要来源是石英砂（二氧化硅），硅元素和氧元素通过共价键连接在一起。因此需要将氧元素从二氧化硅中分离出来，换春盯亩句话说就是要将硅还原出来，采用的方法是将二氧化硅和碳元素（可以用煤、焦炭和木屑等）一起在电弧炉中加热至2100°C左右，这时碳就会将硅还原扒森出来。化学反应方程式为：SiO2 (s) + 2C (s) = Si (s) + 2CO (g)（吸热）

（2）

上一步骤中得到的硅中则圆仍有大约2%的杂质，称为冶金级硅，其纯度与半导体工业要求的相差甚远，因此还需要进一步提纯。方法则是在流化床反应器中混合冶金级硅和氯化氢气体，最后得到沸点仅有31°C的三氯化硅。化学反应方程式为：Si (s) + 3HCl (g) = SiHCl3 (g) + H2 (g)（放热）

(3）

随后将三氯化硅和氢气的混合物蒸馏后再和加热到1100°C的硅棒一起通过气相沉积反应炉中，从而除去氢气，同时析出固态的硅，击碎后便成为块状多晶硅。这样就可以得到纯度为99.9999999%的硅，换句话说，也就是平均十亿个硅原子中才有一个杂质原子。

（4）

进行到目前为止，半导体硅晶体对于芯片制造来说还是太小，因此需要把块状多晶硅放入坩埚内加热到1440°C以再次熔化 。为了防止硅在高温下被氧化，坩埚会被抽成真空并注入惰性气体氩气。之后用纯度99.7%的钨丝悬挂硅晶种探入熔融硅中，晶体成长时，以2~20转/分钟的转速及3~10毫米/分钟的速率缓慢从熔液中拉出：
探入晶体“种子”
长出了所谓的“肩部”
长出了所谓的“身体”
这样一段时间之后就会得到一根纯度极高的硅晶棒，理论上最大直径可达45厘米，最大长度为3米。

以上所简述的硅晶棒制造方法被称为切克劳斯法（Czochralski process，也称为柴氏长晶法），此种方法因成本较低而被广泛采用，除此之外，还有V-布里奇曼法（Vertikalern Bridgman process）和浮动区法（floating zone process）都可以用来制造单晶硅。

6. 各种物质的工业制法

1、工业制硫酸
4FeS2+11O2=2Fe2O3+8SO2（反应条件：高温）
2SO2+O2=2SO3（反应条件：加热,催化剂作用下）
SO3+H20=H2SO4（反应条件：常温）
在沸腾炉,接触室,吸收塔内完成
2、工业制硝酸
4NH3+5O2=4NO+6H2O（反应条件：800度高温,催化剂铂铑合金作用下）
2NO+O2=2NO2
3NO2+O2=2HNO3+NO
3、工业制盐酸
H2+Cl2=2HCl（反应条件：点燃）
然后用水吸收
在合成塔内完成
4、工业制氯气
2NaCl+2H2O=H2+Cl2+2NaOH（电解饱和食盐水）
5、工业制纯碱（侯氏）
NH3+H2O+CO2=NH4HCO3
NH4HCO3+NaCl=NaHCO3+NH4Cl（NH4HCO3结晶析出）
2NaHCO3=Na2CO3+H2O+CO2（反应条件：加热锋盯）
6、工业制氨气
3H2+N2=2NH3 （反应条件：高温高压催化剂作用下）
注：催化剂为铁触媒
7、工业制金属铝
2Al2O3=4Al+3O2 （反应条件：电解,催化剂为熔融的冰晶石）
注：冰晶册基让石化学式为NaAlF6
8、工业制O2
分离液态空气
9、工业制硅
2C+ SiO2==高温==2CO + Si
这是工业制取粗硅的方法
然后Si + Cl2==加热==SiCl4
SiCl4 + 2H2==加热==Si + 4HCl 最后得到的高纯度硅
10、工业炼铁
3CO+Fe2O3=高温 3CO2+2Fe
希望对你有所州局帮助

7. 工业制取单质硅的方法

工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石（二氧化硅含量大于99%）。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（二氧化硅大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。

高纯的半导体硅可在1，200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。

(7)工业制硅需要多少木头扩展阅读

硅的应用领域：

1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半导体；掺入微量的第VA族元素，形成n型半导体。

2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。将陶瓷和金属混合烧结，制成金属陶瓷复合材料，它耐高温，富韧性，可以切割，既继承了金属和陶瓷的各自的优点，又弥补了两者的先天缺陷。

3、光导纤维通信，最新的现代通信手段。用纯二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纤维。激光可在玻璃纤维的通路里，发生无数次全反射而向前传输，代替了笨重的电缆。

8. 工业制取单质硅的方法

工业上常用还原石英砂的方法来制取单质硅，一般在高温下利用强还原剂去还原SiO2来得到单质硅。如：SiO2+2C
Si+2CO↑。但该反应只能得到纯度不高的硅，这种硅不能用作半导体材料，也不能用于制造硅整流器等，因此需要提纯硅得到高纯度的硅。主要经过以下几步反应来实现：Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(纯)+4HCl

9. 粗硅的制备及提出

SiO
2
+C=高温=Si+CO↑
这就是工业制取粗硅的基本原理。