工業硅是利用什麼方法生產出來的

Ⅰ 硅是從那裡提煉出來的

純凈的硅(Si)是從自然界中的石英礦石(主要成分二氧化硅)中提取出來的,分幾步反應:
1.二氧化硅和炭粉在高溫條件下反應,生成粗硅:
SiO2+2C==Si(粗)+2CO
2.粗硅和氯氣在高溫條件下反應生成氯化硅:
Si(粗)+2Cl2==SiCl4
3.氯化硅和氫氣在高溫條件下反應得到純凈硅:
SiCl4+2H2==Si(純)+4HCl
以上是硅的工業製法,在實驗室中可以用以下方法製得較純的硅:
1.將細砂粉(SiO2)和鎂粉混合加熱,製得粗硅:
SiO2+2Mg==2MgO+Si(粗)
2.這些粗硅中往往含有鎂,氧化鎂和硅化鎂,這些雜質可以用鹽酸除去:
Mg+2HCl==MgCl2+H2
MgO+2HCl==MgCl2+H2O
Mg2Si+4HCl==2MgCl2+SiH4
3.過濾,濾渣即為純硅

Ⅱ 硅原料是從哪裡提煉出來的

工業用硅，通常是在電爐中由碳還原二氧化硅而製得。高純度硅則是在石英中提取。冶金級硅，它的制備主要是在電弧爐中用碳還原石英砂而成。

以硅是地球上儲量第二的化學元素，作為半導體材料，人們對它研究得最多、技術最成熟，而且晶硅性能穩定、無毒，因此成為太陽電池研究開發、生產和應用中的主體材料。

硅的性質

硅具有優良的半導體電學性質。禁帶寬度適中，為1.12電子伏。載流子遷移率較高，電子遷移率為1350厘米2/伏·秒，空穴遷移率為480厘米2/伏·秒。

本徵電阻率在室溫(300K)下高達2.3×105歐·厘米,摻雜後電阻率可控制在104～10-4 歐·厘米的寬廣范圍內，能滿足製造各種器件的需要。硅單晶的非平衡少數載流子壽命較長,在幾十微秒至1毫秒之間。

Ⅲ 高純硅的制備方法是什麼

高純硅的制備：

1、硅按不同的純度可以分為冶金級硅（MG）、太陽能級硅（SG）和電子級硅（EG）。一般來說，經過浮選和磁選後的硅石（主要成分是SiO2）放在電弧爐里和焦炭生成冶金級硅，

2、然後進一步提純到更高級數的硅。目前處於世界主流的傳統提純工藝主要有兩種：改良西門子法和硅烷法，它們統治了世界上絕大部分的多晶硅生產線，是多晶硅生產規模化的重要級數。

3、在此主要介紹改良西門子法，改良西門子法是以HCl（或H2，Cl2）和冶金級工業硅為原料，在高溫下合成為SiHCl3，然後通過精餾工藝，提純得到高純SiHCl3，最後用超高純的氫氣對SiHCl3進行還原，得到高純多晶硅棒。

高純硅的應用領域：

1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導體；摻入微量的第VA族元素，形成n型半導體。p型半導體和n型半導體結合在一起形成p-n結，就可做成太陽能電池，將輻射能轉變為電能，在開發能源方面是一種很有前途的材料。

2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結，製成金屬陶瓷復合材料，它耐高溫，富韌性，可以切割，既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點，又彌補了兩者的先天缺陷。可應用於軍事武器的製造。

3、光導纖維通信，最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里，發生無數次全反射而向前傳輸，代替了笨重的電纜。光纖通信容量高，一根頭發絲那麼細的玻璃纖維，可以同時傳輸256路電話。

以上內容參考 網路-硅

Ⅳ 工業制硅用什麼方法！

高純硅的製取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分餾提純SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl

Ⅳ 工業制硅,用什麼方法提純

工業上用碳在電爐內還原二氧化硅製得粗硅。用氫氣還原三氯氫硅或四氯化硅可製得高純度硅。

1.物質的理化常數:
國標編號 81043
CAS號 10026-04-7
中文名稱 四氯化硅
英文名稱 Silicon tetrachloride
別 名 氯化硅；四氯化矽
分子式 SiCl4 外觀與性狀 無色或淡黃色發煙液體，有刺激性氣味，易潮解
分子量 169.90 蒸汽壓 55.99kPa(37.8℃)
熔 點 -70℃ 沸點：57.6℃ 溶解性 可混溶於苯、氯仿、石油醚等多數有機溶劑
密 度 相對密度(水=1)1.48；相對密度(空氣=1)5.86 穩定性 穩定
危險標記 20(酸性腐蝕品) 主要用途 用於製取純硅、硅酸乙酯等，也用於製取煙幕劑

2.對環境的影響:
一、健康危害

侵入途徑：吸入、食入、經皮吸收。
健康危害：對眼睛及上呼吸道有強烈刺激作用。高濃度可引起角膜混濁，呼吸道炎症，甚至肺水腫。皮膚接觸後可引起組織壞死。

二、毒理學資料及環境行為

急性毒性：LC508000ppm，4小時(大鼠吸入)
危險特性：受熱或遇水分解放熱，放出有毒的腐蝕性煙氣。
燃燒(分解)產物：氯化氫、氧化硅。

3.現場應急監測方法:

4.實驗室監測方法:
氣相色譜法，參照《分析化學手冊》(第四分冊，色譜分析)，化學工業出版社

5.環境標准:
前蘇聯(1975) 車間衛生標准 5mg/m3

6.應急處理處置方法:
一、泄漏應急處理

疏散泄漏污染區人員至安全區，禁止無關人員進入污染區，建議應急處理人員戴自給式呼吸器，穿化學防護服。不要直接接觸泄漏物，勿使泄漏物與可燃物質(木材、紙、油等)接觸，在確保安全情況下堵漏。噴水霧減慢揮發(或擴散)，但不要對泄漏物或泄漏點直接噴水。將地面灑上蘇打灰，然後用大量水沖洗，經稀釋的洗水放入廢水系統。如果大量泄漏，最好不用水處理，在技術人員指導下清除。

二、防護措施

呼吸系統防護：可能接觸其蒸氣時，必須佩戴防毒面具或供氣式頭盔。緊急事態搶救或逃生時，建議佩帶自給式呼吸器。
眼睛防護：戴化學安全防護眼鏡。
防護服：穿工作服(防腐材料製作)。
手防護：戴橡皮手套。
其它：工作後，淋浴更衣。單獨存放被毒物污染的衣服，洗後再用。保持良好的衛生習慣。

三、急救措施

皮膚接觸：立即脫去污染的衣著，用流動清水沖洗15分鍾。若有灼傷，就醫治療。
眼睛接觸：立即提起眼瞼，用流動清水沖洗10分鍾或用2%碳酸氫鈉溶液沖洗。
吸入：迅速脫離現場至空氣新鮮處。注意保暖，保持呼吸道通暢。必要時進行人工呼吸。就醫。
食入：患者清醒時立即漱口，給飲牛奶或蛋清。立即就醫。

滅火方法：乾粉、砂土。禁止用水。

Ⅵ 硅的主要制備方法

實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。這種方法製得的都是不夠純凈的無定形硅，為棕黑色粉末。工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（SiO2含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（SiO2大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅SiHCl3或SiCl4製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。 用鎂還原二氧化硅可得無定形硅。用碳在電爐中還原二氧化硅可得晶體硅。電子工業中用的高純硅則是用氫氣還原三氯氫硅或四氯化硅而製得。

Ⅶ 工業上製取粗硅的化學方程式是什麼吖

SiO₂+2C=Si+2CO↑(反應條件是高溫)

工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低，採用質量高的硅石，可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。

高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅SiHCl3或SiCl4製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。

(7)工業硅是利用什麼方法生產出來的擴展閱讀：

用鎂還原二氧化硅可得無定形硅。用碳在電爐中還原二氧化硅可得晶體硅。電子工業中用的高純硅則是用氫氣還原三氯氫硅或四氯化硅而製得。

實驗室製取：

實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。這種方法製得的都是不夠純凈的無定形硅，為棕黑色粉末。

應用領域：

1、由於有機硅獨特的結構，兼備了無機材料與有機材料的性能，具有表面張力低、粘溫系數小、壓縮性高、氣體滲透性高等基本性質，並具有耐高低溫、電氣絕緣、耐氧化穩定性、耐候性、難燃、憎水、耐腐蝕、無毒無味以及生理惰性等優異特性。

廣泛應用於航空航天、電子電氣、建築、運輸、化工、紡織、食品、輕工、醫療等行業，其中有機硅主要應用於密封、粘合、潤滑、塗層、表面活性、脫模、消泡、抑泡、防水、防潮、惰性填充等。

隨著有機硅數量和品種的持續增長，應用領域不斷拓寬，形成化工新材料界獨樹一幟的重要產品體系，許多品種是其他化學品無法替代而又必不可少的。

2、硅可以提高植物莖稈的硬度，增加害蟲取食和消化的難度。盡管硅元素在植物生長發育中不是必需元素，但它也是植物抵禦逆境、調節植物與其他生物之間相互關系所必需的化學元素。

硅在提高植物對非生物和生物逆境抗性中的作用很大，如硅可以提高植物對乾旱、鹽脅迫、紫外輻射以及病蟲害等的抗性。硅可以提高水稻對稻縱卷葉螟的抗性，施用硅後水稻對害蟲取食的防禦反應迅速提高，硅對植物防禦起到警備作用。

水稻在受到蟲害襲擊時，硅可以警備水稻迅速激活與抗逆性相關的茉莉酸途徑，茉莉酸信號反過來促進硅的吸收，硅與茉莉酸信號途徑相互作用影響著水稻對害蟲的抗性。

Ⅷ 工業製取單質硅的方法

工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（二氧化硅含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（二氧化硅大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。

高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。

(8)工業硅是利用什麼方法生產出來的擴展閱讀

硅的應用領域：

1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導體；摻入微量的第VA族元素，形成n型半導體。

2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結，製成金屬陶瓷復合材料，它耐高溫，富韌性，可以切割，既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點，又彌補了兩者的先天缺陷。

3、光導纖維通信，最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里，發生無數次全反射而向前傳輸，代替了笨重的電纜。

Ⅸ 工業硅的冶煉工藝和技術

石英(沙子)與碳在電弧爐中冶煉提純到98%並生成工業硅，其化學反應SiO2+2C=Si+2CO
為了滿足半導體級高純度的需要，必須進一步提純。把工業硅粉碎並用無水氯化氫(HCl)與之反應在一個流化床反應器中，生成三氯氫硅(SiHCl3)。
其化學反應Si+3HCl=SiHCl3+H2
在此基礎上還需要進一步提純，經過一系列化學分離提純工藝除去一些電活性雜質，碳和過渡元素雜質，才能使SiHCl3 的純度達到半導體級的標准要求。
多晶硅採用高溫還原工藝，以高純的SiHCl3在H2氣氛中還原沉積而生成。其化學反應SiHCl3+H2=Si+3HCl。經過如此提純工藝技術，可生產出半導體級高純硅SiHCl3、SiH2Cl2及光纖級高純硅SiCl4。