硅單質在工業怎麼制備

1. 在工業上制備單質硅的化學方程式

第一種。
SiO2 + 2C = Si + 2CO↑
Si + 2Cl2 = SiCl4
SiCl4 + 2H2 = Si +HCl
條件都是高溫

第二種.
將細砂粉（SIO2）與鎂粉混和，製得粗硅。這種粗硅往往含有過量的鎂氧化鎂和硅化鎂，可用鹽酸除去。
SIO2+2MG=SI+2MGO(條件：高溫) 2MG+SI=MG2SI （條件：高溫)
mg+2hcl=mgcl2+h2 mgo+2hcl=mgcl2+h2o
mg2si+4hcl=2mgcl2+sih4

2. 工業製取單質硅的方法

工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（二氧化硅含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（二氧化硅大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。

高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。

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硅的應用領域：

1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導體；摻入微量的第VA族元素，形成n型半導體。

2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結，製成金屬陶瓷復合材料，它耐高溫，富韌性，可以切割，既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點，又彌補了兩者的先天缺陷。

3、光導纖維通信，最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里，發生無數次全反射而向前傳輸，代替了笨重的電纜。

3. 工業上製取硅單質的方法是寫出化學方程式.

高溫,焦炭還原石英砂中的二氧化硅：
SiO2+2C=（高溫）Si+2CO,
此時製得的硅,含有雜質,叫粗硅,還要進行精製,
Si+2Cl2=SiCl4
SiCl4+2H2=Si+4HCl,
這樣就可以得到較純的硅.

4. 如何製取單質硅

工業制備硅的主要方法是通過煉硅爐（電石爐）法，其化學方程式如下：

SiO2 + 2C → Si + 2CO

在這個反應中，二氧化硅（SiO2）與碳（C）在高溫下發生還原反應，生成純凈的硅（Si）和一氧化碳（CO）。這個過程通常在電石爐中進行，其中電石爐提供高溫和還原條件。

需要注意的是，這個化學方程式只是一個簡化的表達，實際制備硅的過程可能涉及到更多的反應步驟和副產物。此外，為了提高工業制備硅的效率和純度，通常會使用更復雜的工藝和技術。