❶ 常見工業氣體中哪些是有毒氣體
有毒有害氣體分為兩類：
①刺激性氣體——是指對眼和呼吸道粘膜有刺激作用的氣體 它是化學工業常遇 到的有毒氣體。刺激性氣體的種類甚多，最常見的有氯、氨、氮氧化物、光氣、氟化氫、二氧化硫、三氧化硫和硫酸二甲酯等。
②窒息性氣體——是指能造成機體缺氧的有毒氣體 窒息性氣體可分為單純窒息性 氣體、血液窒息性氣體和細胞窒息性氣體。如氮氣、甲烷、乙烷、乙烯、一氧化碳、硝基苯的蒸氣、氰化氫、硫化氫等。
❷ 什麼叫工業氣體
工業氣體：一種瓶裝壓縮液態氣體，在常溫常壓下呈氣態，氣體種類有繁多，主要用於各種工業製造方面。
❸ 工業用的氣體都是從空氣中分離出來的嗎
工業氣體的種類比較多：
①氮氣,通過深冷分離的方法制的；
②氧氣,通過深冷分離的方法制的；
③氬氣,通過深冷分離的方法制的；
④二氧化碳,通過尾氣回收並分離的方法制的；
⑤氫氣,通過甲烷裂解或水電解的方法制的（甲烷裂解的成本小,但是雜質多；水電解的成本高但是純度好）
⑥電子氣（硅烷等一些氣體）,通過化學合成或分解的方法制的；
⑦焊接用氣（乙炔等）,通過石油裂解的方法制的.
❹ 工業天然氣表怎麼看
工業天然氣表怎麼看方式如下：
1、燃氣表現在有普通膜式燃氣表和智能燃氣表，滲液岩普通膜式燃氣表上的機械數字就是已經用了的量；
2、普通膜式燃氣表上有黑色和紅色區域，黑色區域就是用了的燃氣的整數，紅色部分就是用了的燃氣的小數後的三位數；
3、智能燃氣表是需要用卡購買的，上面顯示的數字就是購買的燃氣剩埋和餘量；
4、這個顯示屏也不是長期顯示剩餘量的，有時候需要手動去插卡查詢，或者讀卡查詢，有的也可以直接按按鈕喚醒來查詢；
5、插卡識別的，插進去後顯示屏就會顯示數字。更好一點的是只需要把卡放在識別區就能讀取數字了；
6、有的智能燃氣表也可以直接叢御按旁邊的紅色按鈕，就可以喚醒屏幕來查看了，和智能電表一樣。
❺ 我想知道關於工業氣體二氧化碳的相關詳細知識
二氧化碳又稱碳酸氣，是無色、無臭、稍有酸味、無毒性氣體。分子量44.009，在標准狀態下，其密度為1977Kg/m3。氣體相對密度1.529（空氣=1）。二氧化碳能溶於水並部分生成碳酸，對水的溶解度隨溫度的升高和壓力的降低而減小，熔點為-56.57℃，沸點為-78.4℃，臨界溫度為31.1℃，臨界壓力為7.38MPa。
液體二氧化碳在壓力降低時會蒸發，並吸收周圍大量的熱而凝固成乾冰，此時密度為1.564Kg/L，升華溫度為-78.4℃。固體二氧化碳的密度受壓力影響甚微。
二氧化碳的化學性質在常溫下穩定，不會分解，在高溫下，容易分解成一氧化碳和氧，因而具有氧化性。
二氧化碳也具有一切酸性氧化物的化學性質，並能與鹼性氧化物或鹼起化學反應。
在工業一般使用鋼質無縫氣瓶盛裝二氧化碳，氣瓶顏色為鋁白色，在氣瓶瓶身上用仿宋字寫有「液化二氧化碳」字樣，瓶閥為銅質，帶有安全泄放裝置（爆破片），氣瓶的公稱工作壓力為15MPa，公稱容積為40L。
在氣體充裝站，對二氧化碳一般充裝18~24Kg（二氧化碳的充裝系數為0.6，也就是說，一隻公稱容積為40L的鋼質無縫氣瓶，最大充裝量為40*0.6=24Kg）。
市場上目前使用最多的是將其作為保護焊，在機械行業使用較多，有較大的市場。
二氧化碳的售價一般按瓶計算，也可以與充裝商談以公斤論價。
❻ 醫用氧氣和工業氧氣的區別
目前醫用氧氣主要有專門的氧氣供應站輸送到醫院內，有些大的醫院還有自己的氧氣站。如果家庭充氧氣，可以直接到氧氣站，也可以到醫院。氧氣站屬於高危工作環境，一般位置非常偏僻，不容易找到。如果需要用到醫用氧，建議到醫院填充。通常各個醫院的急診科都提供這種服務，不過大醫院有些只提供管道氧，填充有困難，建議到一級醫院磨銀充氧。
與工業氧的區別
工業氧是用於工業生產及產品加工的工業氣體，質量要求較低一般要求純度在99%以上為合格。灌裝規程不如醫用氧氣嚴格，常常會有水分和其他雜質混入並且殘留在氧氣鋼瓶中，混入和殘留在鋼瓶中的水份會導致氧氣瓶內壁銹蝕，從而使瓶內氣體帶有異味。同時工業氧中還存在一氧化碳、二氧化碳、乙炔等對人體極為有害的雜質，一旦病人吸入過量，會發生嗆咳、結痂等現象，引發或加重呼吸系統的病症。
醫用氧氣俗稱乾燥氧氣：醫用氧氣純度要求在99.5%以上，在生產瞎爛宴和充裝過程中除了去除對人體有害的氣體外，主要的就是嚴格控制氧氣中的水含量。由於醫用氧氣是歷橘吸入人體內並且在醫療方面得到廣泛應用，所以，葯品監管部門一直把醫用氧氣列入葯品來管理，要求生產、經營醫用氧氣都要取得許可證。
❼ 工業氣體和特種氣體的差別是什麼
工業氣體和特種氣體的差別主要在於工業氣體出產和銷售的量很大,但對純度要求不高。而特種氣體產銷量雖小，但卻在有、不同的用處時候有不同要求，比如對純度或組成以及有害雜質允許的最高含量、產品的包裝貯運等等都有極其嚴格的要求。
❽ 什麼叫高純氣體，工業氣體
工業上，把常溫常壓下呈氣態的產品統稱為工業氣體產品。
氣體產品種類繁多，大致可以分為一般工業氣體和特種氣體兩大類。
一般工業氣體產銷量大，但對純度要求不高。特種氣體產銷量雖小，但根據不同的用途，對不同特種氣體的純度或組成、有害雜質允許的最高含量、產品的包裝貯運等都有極其嚴格的要求，屬於高技術，高附加值產品。
通常，可以將特種氣體分為三類，即高純或超高純氣體、標准校正氣體和具有特定組成的混合氣體。
氣體產品作為現代工業重要的基礎原料，應用范圍十分廣泛，在冶金、鋼鐵、石油、化工、機械、電子、玻璃、陶瓷、建材、建築、食品加工、醫葯醫療等部門，均使用大量的常用氣體或特種氣體。
❾ 工業氣體顏色有哪些
工業氣體的顏色有：
氧氣，天藍色侍簡困，黑字；
氮氣，黑色，黃字；
壓縮空氣，黑色，白字；
氯氣，草綠色，白字；
氫氣，深綠色，紅字；
氨氣，黃色，黑字老念；咐源
石油液化氣，灰色，紅字；
乙炔，白色，紅字。
❿ 什麼是標准氣體什麼是特種氣體
氣體工業名詞術語（標准氣體、高純氣體、特種氣體）
1. 特種氣體(Specialty gases) ：指那些在特定領域中應用的, 對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體配製的二元或多元混合氣。特種氣體門類繁多, 通常可區分為電子氣體、標准氣、環保氣、醫用氣、焊接氣、殺菌氣等, 廣泛用於電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測、醫學研究及診斷、食品保鮮等領域。
2. 標准氣體(Standard gases) ：標准氣體屬於標准物質。標准物質是高度均勻的、良好穩定和量值)准確的測定標准, 它們具有復現、保存和傳遞量值的基本作用, 在物理、化學、生物與工程測量領域中用於校準測量儀器和測量過程, 評價測量方法的准確度和檢測實驗室的檢測能力, 確定材料或產品的特性量值, 進行量 值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業, 在裝置開車、停車和正常生產過程中需要幾十種純氣和幾百種多組分標准混合氣, 用來校準、定標生產過程中使用的在線分析儀器和分析原料及產品質量的儀器。標准氣還可用於環境監測, 有毒的有機物測量, 汽車排放氣測試, 天然氣BTU 測量, 液化石油氣校正標准, 超臨界流體工藝等。標准氣視氣體組分數區分為二元、三元和多元標准氣體; 配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表徵;比較通用的有SE2M I 配氣允差標准, 但各公司均有企業標准。組分的最低濃度為10- 6級, 組分數可多達20餘種。配製方法可採用重量法, 然後用色譜分析校核, 也可按標准傳遞程序進行傳遞。
3、電子氣體(Elect ron ic gases) ：半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣、高純4 _6 m+ p- _4氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用於外延、摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合，可分為電子級、L S I (大規模集成電路) 級、VL S I (超大規模集成電路) 級和UL S I (特大規模集成電路)級。
4. 外延氣體(Cp itax ial gases) ：在仔細選擇的襯底上採用化學氣相淀積(CVD) 的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。硅外延氣體有4 種, 即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅, 主要用於外延硅淀積, 多晶硅淀積, 淀積氧化硅膜, 淀積氮化硅膜, 太陽電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長是一種單晶材料淀積並生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。
5. 蝕刻氣體(Etch ing gases) ：蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉, 而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來, 這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是, 圖形邊緣整齊, 線條清晰, 圖形變換差小, 且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鑽蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由於蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷和沾污, 所以
其應用范圍日益廣泛。
1. 特種氣體(Specialty gases) ：指那些在特定領域中應用的, 對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體配製的二元或多元混合氣。特種氣體門類繁多, 通常可區分為電子氣體、標准氣、環保氣、醫用氣、焊接氣、殺菌氣等, 廣泛用於電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測、醫學研究及診斷、食品保鮮等領域。
2、 標准氣體(Standard gases) ：標准氣體屬於標准物質。標准物質是高度均勻的、良好穩定和量值准確的測定標准, 它們具有復現、保存和傳遞量值的基本作用, 在物理、化學、生物與工程測量領域中用於校. d( [准測量儀器和測量過程, 評價測量方法的准確度和檢測實驗室的檢測能力, 確定材料或產品的特性量值, 進行量值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業, 在裝置開車、停車和正常生產過程中需要幾十種純氣和幾+百種多組分標准混合氣, 用來校準、定標生產過程中使用的在線分析儀器和分析原料及產品質量的儀器。標准氣還可用於環境監測, 有毒的有機物測量, 汽車排放氣測試, 天然氣BTU 測量, 液化石油氣校正標准, 超臨界流體工藝等。標准氣視氣體組分數區分為二元、三元和多元標准氣體; 配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表徵;比較通用的有SE2M I 配氣允差標准, 但各公司均有企業標准。組分的最低濃度為10- 6級, 組分數可多達20餘種配製方法可採用重量法, 然後用色譜分析校核, 也可按標准傳遞程序進行傳遞。
3、 電子氣體(Elect ron ic gases) ：半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣、高純氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用於外延、摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合，可分為電子級、L S I (大規模集成電路) 級、VL S I (超大規模集成電路) 級和UL S I (特大規模集成電路)級。
4. 外延氣體(Cp itax ial gases) ：在仔細選擇的襯底上採用化學氣相淀積(CVD) 的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。硅外延氣體有4 種, 即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅, 主要用於外延硅淀積, 多晶硅淀積, 淀積氧化硅膜, 淀積氮化硅膜, 太陽電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長是一種單 晶材料淀積並生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。
5. 蝕刻氣體(Etch ing gases) ：蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉, 而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來, 這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是, 圖形邊緣整齊, 線條清晰, 圖形變換差小, 且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鑽蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由於蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷和沾污, 所以其應用范圍日益廣泛。
6. 摻雜氣體(Dopant Gases)：在半導體器件和集成電路製造中, 將某種或某些雜質摻入半導體材料內, 以使材料具有所需要的導電類型和一定的電阻率, 用來製造PN結、電阻、埋層等。摻雜工藝所用的氣體摻雜源被稱為摻雜氣體。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常將摻雜源與運載氣體(如氬氣和氮氣) 在源櫃中混合, 混合後氣流連續流入擴散爐內環繞晶片四周, 在晶片表面沉積上化合物摻雜劑, 進而與硅反應生成摻雜金屬而徙動進入硅。
7. 熏蒸氣體(Sterilizing Gases) ：具有殺菌作用的氣體稱熏蒸氣體。常用的氣體品種有環氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、環氧丙烷等。其滅菌原理是利用烷化作用, 使微生物組織內維持生命不可缺少的物質惰化。最經常使用的是以不同比例配製的環氧乙烷和二氧化碳的混合氣, 根據用途不同, 環氧乙烷的含量可以是10 %、20 %和30 %等。也可採用環氧乙烷和氟利昂12 的混合氣,環氧乙烷與氟利昂11 和氟利昂12 的混合氣等。殺菌效果與各組分濃度、溫度、濕度、時間和壓力等因素有關。熏蒸氣體可以用於衛生材料、醫療器具、化妝品原料、動物飼料、糧食、紙鈔、香辣
8. 焊接保護氣體(Welding Gases)：氣體保護焊由於具有焊接質量好, 效率高, 易實現自動化等優點而得以迅速發展。焊接保護氣體可以是單元氣體, 也有二元、三元混合氣。採用焊接保護氣的目的在於提高焊縫質量, 減少焊縫加熱作用帶寬度, 避免材質氧化。單元氣體有氬氣、二氧化碳, 二元混合氣有氬和氧, 氬和二氧化碳, 氬和氦, 氬和氫混合氣。三元混合氣有氦、氬、二氧化碳混合氣。應用中視焊材不同選擇不同配比的焊接混合氣。
9. 離子注入氣( Gases for Ion Implantation)：離子注入是把離子化的雜質, 例如P + 、B + 、As+加速到高能量狀態,然後注入到預定的襯底上。離子注入技術在控制V th(閾值電壓) 方面應用得最為廣泛。注入的雜質量可通過測量離子束電流而求得。離子注入工藝所用氣體稱離子注入氣, 有磷系、硼系和砷系氣體。
10. 非液化氣體(Nonliquefied Gases)：壓縮氣體依據於一定壓力和溫度下在氣瓶中的物理狀態和沸點范圍可以區分為兩大類, 即液化氣體和非液化氣體。非液化氣體系指除溶解在溶液中的氣體之外, 在2111 ℃和罐裝壓力下完全是氣態的氣體。也可定義為在正常地面溫度和13789～17237kPa 壓力下不液化的氣體。
11. 液化氣體( Liquefied Gases )：在2111 ℃和罐裝壓力下部分液化的氣體。或定義為在正常溫度和172142～17237kPa 壓力下在氣瓶中液化的氣體。壓縮氣體(Compressed Gases) 壓縮氣體是指在2111 ℃下, 在氣瓶中絕對壓力超過27518kPa 的任何氣體或混合物; 或與2111 ℃下的壓力無關, 於5414 ℃下絕對壓力超過717kPa 的任何氣體或混合物; 或於3718 ℃下氣體絕對壓力超27518kPa 的任何液體。
12. 稀有氣體(Rare Gases)：元素周期表最後一族的六種惰性氣體中的任何一種氣體, 即氦、氖、氬、氪、氙、氡。前五種氣體均可以空氣分離方法從空氣中提取。
13. 低壓液化氣體(Low P ressu re L iquef ied Gases) ：臨界溫度大於70℃的氣體。區分為不燃無毒和不燃有毒、酸性腐蝕性氣體; 可燃無毒和可燃有毒、酸性腐蝕性氣體; 易分解或聚合的可燃氣體。此類氣體在充裝時以及在允許的工作溫度下貯運和使用過程中均為液態。包括的氣體品種有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟環丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光氣、氟化氫、溴化氫、二氧化硫、硫醯氟、二氧化氮、液壓石油氣、丙烷、環丙烷、丙烯、正丁烷、異丁烷、1- 丁烯、異丁烯、順- 2-丁烯、反- 2- 丁烯、R142b、R 143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、甲硫醇、硫化氫、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1, 3—丁二烯、氯乙烯、環氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。
14. 高壓液化氣體(H igh P ressu re L iquef iedGases) ：臨界溫度大於或等於- 10℃且小於或等於70℃的氣體。區分為不燃無毒和不燃有毒氣體; 可燃無毒和自燃有毒氣體; 易分解或聚合的可燃氣體。此類氣體充裝時為液態,但在允許的工作溫度下貯運和使用過程中其蒸汽壓隨溫度的升高而升高, 超過臨界溫度時蒸發為氣體。所包括的氣體品種有一氧化二氮、二氧化碳、三氟甲烷、三氟氯甲烷、三氟溴甲烷、六氟乙烷、六氟化硫、氙、氯化氫、乙烷、乙烯、1, 1- 二氟乙烯、硅烷、磷烷、氟乙烯、乙硼烷。