① 工業上生產硅採用的是什麼方法
制備
工業上，通常是在電爐中由碳還原二氧化硅而製得。
化學反應方程式：
SiO2
+
2C
→
Si
+
2CO
這樣製得的硅純度為97~98%，叫做金屬硅。再將它融化後重結晶，用酸除去雜質，得到純度為99.7~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易於提純的液體或氣體形式，再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。
② 工業製取單質硅的方法
工業上常用還原石英砂的方法來製取單質硅，一般在高溫下利用強還原劑去還原SiO2來得到單質硅。如：SiO2+2C
Si+2CO↑。但該反應只能得到純度不高的硅，這種硅不能用作半導體材料，也不能用於製造硅整流器等，因此需要提純硅得到高純度的硅。主要經過以下幾步反應來實現：Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(純)+4HCl
③ 硅的工業製取法和硅酸鹽的運用
硅的工業製法:二氧化硅+2C=Si+2CO↑條件:高溫....常用的硅酸鹽是硅酸鈉,易溶於水,俗名「水玻璃」,顯鹼性,有黏稠性,可用作防火劑,黏膠劑;另外硅酸鹽產品還有陶瓷、玻璃、水泥等無機非金屬材料...
④ 工業上製取硅單質的方法是寫出化學方程式。
高溫，焦炭還原石英砂中的二氧化硅：
SiO2+2C=（高溫）Si+2CO，
此時製得的硅，含有雜質，叫粗硅，還要進行精製，
Si+2Cl2=SiCl4
SiCl4+2H2=Si+4HCl，
這樣就可以得到較純的硅。
⑤ 在工業上制備單質硅的化學方程式
第一種。
SiO2 + 2C = Si + 2CO↑
Si + 2Cl2 = SiCl4
SiCl4 + 2H2 = Si +HCl
條件都是高溫
第二種.
將細砂粉（SIO2）與鎂粉混和，製得粗硅。這種粗硅往往含有過量的鎂氧化鎂和硅化鎂，可用鹽酸除去。
SIO2+2MG=SI+2MGO(條件：高溫) 2MG+SI=MG2SI （條件：高溫)
mg+2hcl=mgcl2+h2 mgo+2hcl=mgcl2+h2o
mg2si+4hcl=2mgcl2+sih4
⑥ 硅的主要制備方法
實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。這種方法製得的都是不夠純凈的無定形硅，為棕黑色粉末。工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（SiO2含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（SiO2大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅SiHCl3或SiCl4製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。 用鎂還原二氧化硅可得無定形硅。用碳在電爐中還原二氧化硅可得晶體硅。電子工業中用的高純硅則是用氫氣還原三氯氫硅或四氯化硅而製得。
⑦ 工業制硅用什麼方法！
高純硅的製取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分餾提純SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl
⑧ 寫出工業制硅的化學方程式
工業制硅化學方程式：
2c+sio2==高溫==2co+si（得到粗硅）
si+2cl2==sicl4
2h2+sicl4==高溫==si+4hcl（得到精硅）
⑨ 工業制硅的化學方程式
SiO2+2C=Si(粗硅)+2CO Si+3HCl=SiHCl3+H2 SiHCl3+H2=Si+3HCl 後面是粗硅的精煉
⑩ 工業製取單質硅的方法
工業上常用還原石英砂的方法來製取單質硅，一般在高溫下利用強還原劑去還原SiO
2
來得到單質硅。如：SiO
2
+2C
Si+2CO↑。
但該反應只能得到純度不高的硅，這種硅不能用作半導體材料，也不能用於製造硅整流器等，因此需要提純硅得到高純度的硅。主要經過以下幾步反應來實現：
Si(粗)+2Cl
2
=SiCl
4
SiCl
4
+2H
2
=Si(純)+4HCl