1. 白剛玉拋光粉作用及拋光方法
拋光指的是利用一些拋光工具或者是磨料或者是其他的可以用來拋光的介質,對物體表面進行修飾加工,以達到加工件表面的粗糙度降低,變得平整光潔的目的。拋光僅僅是為了使加工件表面變得光潔平整,並不能對加工件的尺寸精度和幾何形狀精度進行改變。
白剛玉拋光粉的拋光方法:
1、化學拋光:化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑面。此拋光方法白剛玉砂在拋光液中配比需要嚴格控制。
2、電解拋光:靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。
3、流體拋光:流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。介質主要採用在較低壓力下流過性好的特殊化合物並摻上白剛玉微粉製成。
4、磁研磨拋光:磁研磨拋光是利用磁性綠碳化硅在磁場作用下形成白剛玉砂,然後用磨光片對工件磨削加工。
5、機械拋光:機械拋光是靠切削材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑面的拋光方法。
2. 拋光粉的現狀應用
背景情況
鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強,拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點,故比其他拋光粉(如Fe2O3紅粉)的使用效果佳,而被人們稱為「拋光粉之王」。該產品在我國發展較快,應用日廣,產量猛增,發展前景看好。
1.1 發展過程
紅粉(氧化鐵)是歷史上最早使用的拋光材料,但它的拋光速度慢,而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展,於二十世紀30年代,首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次世界大戰中,一個在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員,於1943年提出了一種叫做巴林士粉(Barnesite)的稀土氧化物拋光粉,這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由於稀土拋光粉具有拋光效率高、質量好、污染小等優點,激起了美國等國家的群起研究。這樣,稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。
國外於60年前開始生產稀土拋光粉,二十世紀90年代已形成各種標准化、系列化的產品達30多種規格牌號。
國外的稀土拋光粉生產廠家主要有15家(年生產能力為200噸以上者)。其中,法國羅地亞公司年生產能力為2200多噸。是目前世界上最大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達1500噸以上。日本生產稀土拋光粉的原料採用氟碳鈰礦、粗氯化鈰和氯化稀土三種,工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。1968年,我國在上海躍龍化工廠首次研製成功稀土拋光粉。隨後西北光學儀器廠、雲南光學儀器廠相繼採用獨居石為原料,研製成功不同類型稀土拋光粉。北京有色金屬研究總院、北京工業學院等單位於1976年研製並推廣了739型稀土拋光粉,1977年又研製成功了771型稀土拋光粉。1979年甘肅稀土公司研製成功了797型稀土拋光粉。目前國內已有14個稀土拋光粉生產廠家(年生產能力達30噸以上者),最大的一家年生產能力為2220噸(包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司)。但與國外相比仍有較大差距,主要是稀土拋光粉的產品質量不穩定,未能達到標准化、系列化,還不能完全滿足各種工業領域的拋光要求,因此必須迎頭趕上。
1.2組成分類
1.2.1 以稀土拋光粉中CeO2量來劃分:
稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類:一類是CeO2含量高的價高質優的高鈰拋光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低鈰拋光粉,其鈰含量在50%左右,或者低於50%,其餘由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。
對於高鈰拋光粉來講,氧化鈰的品位越高,拋光能力越大,使用壽命也增加,特別是硬質玻璃長時間循環拋光時(石英、光學鏡頭等),以使用高品位的鈰拋光粉為宜。
低鈰拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其餘50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等鹼性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等鹼性氟化物,此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣,因而廣泛用於平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光,但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。
1.2.2以稀土拋光粉的大小及粒度分布來劃分:
稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。對於一定組分和加工工藝的拋光粉,平均顆粒尺寸越大,則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下,顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度最大。相反地,如果拋光粉顆粒平均粒度較小,則磨削量減少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,標准拋光粉一般有較窄的粒度分布,太細和太粗的顆粒很少,無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面,而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。此外,稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分,稀土拋光粉生產技術屬於微粉工程技術,稀土拋光粉屬於超細粉體,國際上一般將超細粉體分3種:納米級(1nm~100nm);亞微米級(100nm~1μm);微米級(1μm~100μm),據此分類方法,稀土拋光粉可以分為:納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類,通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級,其粒度分布在1μm~10μm之間,稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最後工序,進行精磨,因此其粒度分布一般不大於10μm,粒度大於10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小於1μm的亞微米級稀土拋光粉,由於在液晶顯示器與電腦光碟領域的應用逐漸受到重視,產量逐年提高。
納米級稀土拋光粉已經問世,隨著現代科學技術的發展,其應用前景不可預測,但市場份額還很小,屬於研發階段。
1.3 生產原料
我國生產鈰系稀土拋光粉的原料有下列幾種:
(1)氧化鈰(CeO2),由混合稀土鹽類經分離後所得(w(CeO2)=99%);
(2)混合稀土氫氧化物(RE(OH)3),為稀土精礦(w(REO)≥50%)化學處理後的中間原料(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%);
(3)混合氯化稀土(RECl3),從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土(主要含La,Ce,Pr和Nd,w(REO)≥45%,w(CeO2)≥50%);
(4)高品位稀土精礦(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%),有內蒙古包頭混合型稀土精礦,山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。
以上原料中除第1種外,第2,3,4種均含輕稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2為主,w(CeO2)為48%~50%。我國具有豐富的鈰資源,據測算,其工業儲量約為1800萬噸(以CeO2計),這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎,也是我國獨有的一大優勢,並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1.4 主要生產工藝及設備
1.4.1 高鈰系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離後的氧化鈰為原料,以物理化學方法加工成硬度大,粒度均勻、細小,呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為:原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘乾→高級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有:煅燒爐,水淬槽,分級器,過濾機,烘乾箱。
主要指標:產品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm(或粒度為200目~300目),晶形完好。該產品適用於高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉(紅粉)。
1.4.2中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)為原料,以化學方法預處理得稀土鹽溶液,加入中間體(沉澱劑)使轉化成w(CeO2)=80%~85%的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為:
原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉澱→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備:氧化槽,優溶槽,酸溶槽,沉澱槽,過濾機,煅燒爐,細磨篩分機及包裝機。
主要指標:產品中w(REO)=90%,w(CeO2)=80%~85%;稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm~1.3μm。該產品適用於高速拋光,比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
1.4.3 低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土(w(REO)≥45%,w(CeO2)≥48%)為原料,以合成中間體(沉澱劑)進行復鹽沉澱等處理,可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為:
原料→溶解→復鹽沉澱→過濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細磨篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備:溶解槽,沉澱槽,過濾機,煅燒爐,粉碎機,細磨篩分機。
主要指標:產品中w(REO)=85%~90%,w(CeO2)=48%~50%;稀土回收率約95%;平均粒徑0.5μm~1.5μm(或粒度320目~400目)。該產品適合於光學玻璃等的高速拋光之用。
用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%)為原料,直接用化學和物理的方法加工處理,如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。
其主要工藝過程為:
原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備:球磨機,混料機,焙燒爐,篩分機等。主要指標:產品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm。該產品適合於眼鏡片、電視機顯像管的高速拋光之用。
國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量最多,約占總產量的90%以上。
1.5 應用
由於鈰系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能,所以在工業製品拋光中獲得了廣泛的應用,如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密製品等的拋光。
1.6 市場
在稀土拋光粉的消費中,日本是最大的消費者,每年約生產3550噸~4000噸拋光粉,產值35億~40億日元,還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中最大的拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期,日本陰極射線管的生產轉向海外,平面顯示產品產量迅速增加,對鈰基拋光粉的需求量也迅速增加。日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%。90年代以來,日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術、設備向海外轉移,如:日本清美化學從1989年開始,在海外生產陰極射線管用鈰基拋光粉。1989年在台灣建立了一家獨資企業,1990年投入生產,生產能力每年1000噸。1997年又與我國包頭鋼鐵公司合資在包頭建立了一家專門生產彩電陰極射線管、電子管和平板玻璃拋光用拋光粉的企業。設計能力為每年1200噸,所用原料為高品位氟碳鈰礦和富鈰碳酸稀土。因此,新日本金屬化學公司的陰極射線管用拋光粉因受來自中國大陸和台灣大量低價拋光粉的沖擊也有意從事用於液晶顯示用高性能拋光粉的生產。東北金屬化學公司計劃從事光學鏡頭和液晶顯示屏用拋光粉的生產。
高鈰系稀土拋光粉,主要適用於精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明,該拋光粉的性能優良,拋光效果較好,由於價格較高,國內的使用量較少。
中鈰系稀土拋光粉,主要適用於光學儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高鈰粉比較,可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,製品的光潔度可提高一級,拋光粉的使用壽命可提高30%。目前國內使用這種拋光粉的用量尚少,有待於今後繼續開發新用途。
低鈰系稀土拋光粉,如771型適用於光學眼鏡片及金屬製品的高速拋光;797型和C-1型適用於電視機顯像管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光;H-500型和877型適用於電視機顯像管的拋光。此外,其它拋光粉用於對光學儀器,攝像機和照相機鏡頭等的拋光,這類拋光粉國內用量最多,約占國內總用量85%以上。
1.7、結束語
我國的稀土拋光粉行業從無到有,從小到大,已走過了近50年的歷史。目前我國在生產、應用、市場和技術設備等方面已取得很大的成就和發展,在世界同行業中已佔主導地位,並成為世界稀土拋光粉的生產和供應大國。今後要加快技術設備的創新,提高生產水平。要加速產品標准化和系列化的進程,要增加新品種,提高產品質量,努力提高產品出口量,佔領國際市場。
3. 稀土拋光粉的種類及應用有哪些
在工業領域,拋光粉是重要的研磨拋光材料,根據不同的性質,拋光粉可以分為無機拋光粉、金屬拋光粉和塑料拋光粉等。稀土拋光粉是無機拋光粉中的一類,具有粉體粒度均勻、拋光質量好效率高、使用量少、壽命長、易清洗,對環境不易造成污染等優點,被人們廣泛應用在液晶顯示類產品的拋光加工中。同時,與其它的稀土拋光粉相比,稀土拋光粉產品中的飾基拋光粉拋光效率更高,拋光表面更為光滑,被人們稱為「拋光粉之王」,是一類重要的稀土拋光粉產品,具有很好的發展前景。以下我們重點討論飾基稀土拋光粉的分類。對於飾基稀土拋光粉,氧化鈰拋光粉的含量、微觀形貌、晶型結構、以及粉體的粒度分布都對拋光粉的性能起決定性的影響作用,因此,我們通常按照稀土拋光粉中氧化鈰拋光粉含量以及粉體的粒度和粒度分布來對飾基稀土拋光粉進行分類。飾基稀土拋光粉中的主要成分是氧化鈰拋光粉,飾基稀土拋光粉中的主要成分是氧化鈰拋光粉,其中氧化鈰拋光粉也是在拋光過程中起主要作用的物質,所以根據氧化鈰拋光粉量的高低我們將缽基稀土拋光粉劃分為高飾稀土拋光粉、中飾稀土拋光粉、低飾稀土拋光粉這三大類別。
高飾稀土拋光粉,CeO2含量99%, REO>98%,平均粒度在1μm-6μm。此類產品包括有A-8型,飾粉型,高飾品一1型三個品種。高飾稀土拋光粉的氧化鈰拋光粉品味極高,拋光性能好,壽命長,在國內主要應用於硬質玻璃如精密光學鏡頭和石英的高速、長時間循環拋光。其生產工藝大致分為:1、由氯化稀土加工出的氫氧化飾產物為原材
料的制備工藝,2、以氟碳飾礦鍛燒加工出的富飾產物為原材料的制備工藝。高飾稀土拋光粉的生產成本和價格較高,國內使用量較小。
中飾稀土拋光粉,氧化鈰拋光粉約80%^-85%, REO為90%,平均粒度在0.4μm-1.3μm,產品含氟量3%-6%。此類產品包括有739型一個品種。中飾稀土拋光粉的氧化鈰拋光粉品味較高,相對於高飾稀土拋光粉,所需漿液濃度在降低10%時,拋光工藝中所需的速率將提高30%,使用的拋光粉壽命能增加35%,得到拋光品表面的光潔度更能提高一個等級,此類產品較適用於對中等精度中小球面的光學鏡頭的拋光。對於中飾稀土拋光粉,在我國的產量及用量都不是很大,有待於繼續開發。
低飾稀土拋光粉,又稱為飾組混合稀土拋光粉。氧化鈰拋光粉約48%-50%, RE085%一95%,平均粒度在0.4μm-1.3μm,其中有些產品如797, 877型含氟4%-8%,此類產品包括有771, 795, 797, 817, 877, C-1和H-500型等共10個品種。低飾稀土拋光粉的CeO2品味較低,初始拋光能力與高級飾系稀土拋光粉相比幾乎差不多,但使用壽命短,此類產品中的771型應用在光學鏡片、金屬製品的拋光;797型應用在電視機顯像管、平板玻璃等的拋光。低飾稀土拋光粉的生產成本低,價格便宜。http://www.dgmingkang.com/news_content-512538.html
4. 拋光粉怎麼用
拋光粉的拋光機理和拋光粉的機理一樣,都是使用拋光機和拋光粉與光學玻璃之間摩擦,從而使光學玻
璃表面達到工藝要求的平整度.拋光機拋光是指在拋光粉的作用下,使其表面性能提高達到足夠的光滑度,從而
減小表面不規則的影響對光的透射或反射造成的不良影響。拋光工藝過程是一個復雜的過程,對其拋光機理的
解釋都差不多,總結起來有以下四大學說:
(1)純物理學說:即玻璃表面的凹凸層受到機械磨削作用而被磨除,出現了一定的流動和塑性變形,在此過
程中,機械摩擦產生的熱量促使玻璃的表面呈現軟化現象。純物理學認為,拋光工藝過程其本質就是玻璃表層
元素分子重新排布和組合,從而產生一個新的平整的表面的過程.
(2)化學學說:化學學說認為,拋光工藝過程其本質就是拋光所使用的原料和器具之間相互作用,產生化學
變化,使得玻璃的表層的不平整面被磨除.
(3)物理化學作用的綜合學說。拋光工藝過程屬於化學機械拋光(CMP ),集機械磨削作用和化學腐蝕作用於
一體,目前這一學說受到了大多數拋光粉研究者的認可。氧化鈰拋光粉在拋光過程中會出現兩種作用一膠體化
學作用和機械作用;首先是氧化鈰磨除玻璃表層的不平整面,使得玻璃表層顯現拋光面,在這期間我們認為機械
摩擦起到了主要作用。然後在拋光所使用的原料和器具之間相互化學作用下,玻璃表層開始形成軟化層,它是
與拋光模具作用,由摩擦熱形成的塑形流動而成的軟化層,又是同水溶劑作用,由水解形成的硅酸凝膠層。
(4)流變作用學說:流變作用學說認為拋光過程是玻璃表面分子破碎並重新分布而形成平整表面的過程,即
熱軟化以致熔融而產生流動,或是摩擦熱使玻璃表面產牛塑性奪形和流動。
5. 玻璃拋光粉如何使用
使用玻璃拋光粉前的准備工作和使用方法
玻璃表面清潔及玻璃拋光前的准備工作:
1、先將要修復的玻璃邊緣周圍用膠帶圍住,以免玻璃拋光時弄臟汽車與周圍環境。
2、認真清潔玻璃以及玻璃拋光砂紙的表面, 不能有任何灰塵、沙子等附著。
3、在玻璃拋光前,先用記號筆在玻璃背後圈出要拋光修復的部位,避免挪位造成拋光面積過大。
目前主要使用的玻璃拋光的方法:
1、火拋光,利用火焰對玻璃表面進行軟化以及火力對玻璃的沖擊,可以解決玻璃製品表面一些料紋但是處理後的玻璃表面平整度會有所降低。一般的空心器皿玻璃切割後口部比較粗糙可用此法拋光。
2、拋光粉拋光,利用拋光粉對玻璃表面的高速摩擦來祛除劃痕,檫毛等等,能夠最大限度的提高玻璃的透光性和折射效果!在拋光前要先對拋光的部位進行砂帶打磨,純平面應用400目以上的金剛砂磨盤打磨。此種拋光方法的運用工具和材料很多,但效果最好的還是羊毛輪+氧化鈰(俗名、稀土拋光粉)。
3、酸拋光,利用酸對玻璃的腐蝕作用進行玻璃的表面處理,在拋光前同樣需要對玻璃的表面使用砂帶打磨,因為酸拋光可以將玻璃的厚度削減很多,但是並不一定能夠全部的去除玻璃的紋路。它的配方根據玻璃材質的不同而轉變。
6. 請問一般拋光要用到拋光粉嗎拋光產品它有什麼作用
拋光粉主要用於精光研磨,切削力量低,光澤度高,東莞廣盛源拋光粉作業後工件表面達到精光效果。
7. 稀土拋光粉的用途
用來對被加工件的拋光處理,拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成,在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密製品等的拋光。
8. 稀土拋光粉的用途有哪些
應用行業:特別適用於大理石、水磨石、石灰石等含鈣量多的石材,也適用於花崗岩表面的高光、晶面、防護處理,處理後的板材表面晶瑩剔透、色彩飽滿、光澤度高、板面硬度提高、耐磨損、耐粉化不易褪光。
使用用法:1、本品最佳使用效果的三個前提:地面平整、干凈、乾燥。2、取本品拋光粉末加水調成漿料,比例為1:1-2,直接拋干,即可達到晶瑩透亮的效果,也可濕拋.
9. 氧化鈰拋光粉可以用於什麼方面的
氧化鈰稀土拋光粉的應用,主要是稀土的應用,其應用如下: 氧化鈰稀土拋光粉在行業中的應用眾所周知,具有拋光光潔度高、速度快和使用壽命長等優點,和以前的拋光粉鐵紅粉相比,具有易於從沾著物上除去,不污染環境等優勢。用氧化鈰稀土拋光粉拋光光學玻璃鏡片,拋光時間只需一分種左右,和以往30多分種的拋光粉相比較,其效率足足提高30倍多,而且由於稀土氧化鈰具有顆粒微小,均勻度高,懸浮度高的特點,其用量也少。所以,稀土拋光粉具有拋光速度快,拋光效率高以及用量少的優點。而且能改變拋光質量和操作環境。 氧化鈰稀土拋光粉在光學玻璃中的作用 2,玻璃脫色作用: 大多數光學玻璃里都含有氧化鐵,它能通過原料、砂子、石灰石和玻璃配料中的碎玻璃帶入玻璃,其存在形式有兩種:一種是使玻璃顏色變成深藍的二價鐵,另一種使玻璃顏色變成黃色的三價鐵,脫色就是把二價鐵離子氧化成三價鐵,因為三價鐵的色調強度只有二價鐵的十分之一。然後添加補色劑,把顏色中和成淺綠色。 用於玻璃脫色的稀土元素主要是氧化鈰和氧化釹。稀土玻璃脫色劑取代傳統使用的白砒脫色劑,不僅提高效率,而且還避免了白砒的污染。氧化鈰用於玻璃脫色具有高溫性能穩定、價格低廉和不吸收可見光等優點 2,稀土拋光作用: 一般稀土玻璃拋光粉主要用富鈰氧化物。氧化鈰之所以是極有效的拋光用化合物,是因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時拋光玻璃。稀土鈰拋光粉廣泛用於照相機、攝影機鏡頭、電視顯像管、眼鏡片等的拋光。目前我國有稀土拋光粉廠幾十家,生產規模上百噸的十餘家。 3,稀土澄清劑作用: 採用氧化鈰代替傳統的氧化砷作玻璃澄清劑,清除氣泡和微量帶色元素,在制備無色玻璃瓶時效果顯著,成品晶熒潔白、透明度好、玻璃強度和耐熱性提高。同時還消除了砷對環境和玻璃的污染。 另外,氧化鈰添加在日用玻璃,如建築和汽車用玻璃,水晶玻璃,能減少紫外線的透光率,該用途在日本和美國已推廣使用。在我國隨著生活質量的提高,也會有較好的市場。氧化釹添加在顯像管玻殼中,可消除紅色光的色散,增加了清晰度。添加稀土的特種玻璃有:鑭玻璃具有高折射、低色散特性,廣泛用於製造各種透鏡和高級照相機、攝像機鏡頭,尤其是高空攝影裝置的鏡頭;鈰防輻射玻璃,用於汽車玻璃和電視玻殼;釹玻璃用於激光材料,是巨型激光器最理想的材料,主要用於受控核聚變裝置。 4,在燃料電池中可以得到一定應用: 稀土元素的性質決定於稀土原子和稀土離子的電子結構特點。稀土元素的性質是與稀土元素在自然界中的存在和分布形式、稀土元素分離的方法以及稀土元素在各方面廣泛應用密切相關的。為了更好地理解稀土元素分離和應用的原理,我們有必要先來研究一下稀土元素(金屬和+3價離子)的物理和化學性質。稀土元素都是典型的金屬,一般呈銀灰色,其金屬光澤介於鐵和銀之間。其中某些可以形成帶顏色的鹽的金屬略具淡黃色(如鐠、釹等)。稀土金屬質地柔軟,如鈰和鑭同錫一樣柔軟,但隨著原子序數增大而有逐漸變硬的趨勢。稀土金屬具有延展性,其中鈰、釤、鐿延展性良好,例如鈰能很好地軋成薄片抽成細絲。大部分稀土金屬呈緊密六方晶格或面心立方晶格結構,只有釤為菱形結構,銪為體心立方結構。稀土金屬(除銪、鐿外)的密度和稀土金屬(除鑭、銪、鐿外)的熔點都隨著原子序數的增加而增加。就其密度而言,以鈧為最小、釔次之,而銩和鑥最大,這與它們的原子半徑的變化趨勢相一致。它們的沸點,鐿最低,鑭和鈰最高。 5,玻璃著色作用: 稀土離子在高溫下具有穩定而鮮艷的顏色,用來摻入料液中,製造各種顏色的玻璃。釹、鐠、鉺、鈰等稀土氧化物都是極佳的玻璃著色劑,當添加稀土著色劑的透明玻璃吸收波長為400~700納米的可見光時,呈現出美麗的彩色。用這些彩色玻璃可以製作航空航海、各種交通工具的指示燈罩及各種高級藝術裝飾品。 氧化釹加入鈉-鈣玻璃和鉛玻璃中,玻璃顏色的深淺取決於玻璃的厚度和釹的含量以及光源的強弱,薄玻璃呈淡粉紅色,厚玻璃呈蘭紫色,這種現象稱為釹的雙色性;氧化鐠產生一種類似於鉻的綠色;氧化鉺用在光致變色玻璃和水晶玻璃中呈粉紅色;氧化鈰和二氧化鈦結合使用,使玻璃呈黃色;氧化鐠和氧化釹可用於鐠釹黑玻璃。 來自: