工業制硅需要多少木頭

1. 工業制硅用什麼方法！

高純硅的製取：SiO2+2CSi+2CO↑（制粗硅）Si (粗硅)+2Cl2SiCl4（分餾提純SiCl4）SiCl4+2H2Si+4HCl

2. 硅含量98.5%以上的石英砂怎樣加工成高純硅，求價格

石英砂是從150-350的都有

3. 工業硅的工業硅冶煉的原料

冶煉工業硅的原料主要有硅石、碳質還原劑。由於對工業硅中鋁、鈣、鐵含量限制嚴格，對原料的要求也特別嚴格。硅石中SiO2>99.0%，Al2O3<0.3%，Fe2O3<0.15%，CaO<0.2%，MgO<0.15%；粒度為15～80mm。選擇碳質還原劑的原則是：固定碳高，灰分低，化學活性好。通常是採用低灰分的石油焦或瀝青焦作還原劑。但是，由於這兩種焦炭電阻率小，反應能力差，因而必須配用灰分低，電阻率大和反應能力強的木炭（或木塊）代替部分石油焦。為使爐料燒結，還應配入部分低灰分煙煤。必須指出，過多或全部用木炭，不但會提高產品成本，而且還會使爐況紊亂，如因料面燒結差而引起刺火塌料、難以形成高溫反應區、爐底易開成SiC層、出鐵困難等。

4. 硅的製作方法是什麼

我給你方程式：
從硅的純侍薯氧化物中製取硅
單質
SiO2
+2C=
高溫電爐
=Si+2CO↑
石做者英砂談搏
焦炭
粗硅
Si(粗)+2CL2=加熱=
SiCl4
SiCl4+2H2=高溫=Si(純)+4HCl
就是這樣，你能明白嗎？
謝謝採納

5. 製造單晶硅需要什麼樣的原料

（1）

硅的主要來源是石英砂（二氧化硅），硅元素和氧元素通過共價鍵連接在一起。因此需要將氧元素從二氧化硅中分離出來，換春盯畝句話說就是要將硅還原出來，採用的方法是將二氧化硅和碳元素（可以用煤、焦炭和木屑等）一起在電弧爐中加熱至2100°C左右，這時碳就會將硅還原扒森出來。化學反應方程式為：SiO2 (s) + 2C (s) = Si (s) + 2CO (g)（吸熱）

（2）

上一步驟中得到的硅中則圓仍有大約2%的雜質，稱為冶金級硅，其純度與半導體工業要求的相差甚遠，因此還需要進一步提純。方法則是在流化床反應器中混合冶金級硅和氯化氫氣體，最後得到沸點僅有31°C的三氯化硅。化學反應方程式為：Si (s) + 3HCl (g) = SiHCl3 (g) + H2 (g)（放熱）

(3）

隨後將三氯化硅和氫氣的混合物蒸餾後再和加熱到1100°C的硅棒一起通過氣相沉積反應爐中，從而除去氫氣，同時析出固態的硅，擊碎後便成為塊狀多晶硅。這樣就可以得到純度為99.9999999%的硅，換句話說，也就是平均十億個硅原子中才有一個雜質原子。

（4）

進行到目前為止，半導體硅晶體對於晶元製造來說還是太小，因此需要把塊狀多晶硅放入坩堝內加熱到1440°C以再次熔化 。為了防止硅在高溫下被氧化，坩堝會被抽成真空並注入惰性氣體氬氣。之後用純度99.7%的鎢絲懸掛硅晶種探入熔融硅中，晶體成長時，以2~20轉/分鍾的轉速及3~10毫米/分鍾的速率緩慢從熔液中拉出：
探入晶體「種子」
長出了所謂的「肩部」
長出了所謂的「身體」
這樣一段時間之後就會得到一根純度極高的硅晶棒，理論上最大直徑可達45厘米，最大長度為3米。

以上所簡述的硅晶棒製造方法被稱為切克勞斯法（Czochralski process，也稱為柴氏長晶法），此種方法因成本較低而被廣泛採用，除此之外，還有V-布里奇曼法（Vertikalern Bridgman process）和浮動區法（floating zone process）都可以用來製造單晶硅。

6. 各種物質的工業製法

1、工業制硫酸
4FeS2+11O2=2Fe2O3+8SO2（反應條件：高溫）
2SO2+O2=2SO3（反應條件：加熱,催化劑作用下）
SO3+H20=H2SO4（反應條件：常溫）
在沸騰爐,接觸室,吸收塔內完成
2、工業制硝酸
4NH3+5O2=4NO+6H2O（反應條件：800度高溫,催化劑鉑銠合金作用下）
2NO+O2=2NO2
3NO2+O2=2HNO3+NO
3、工業制鹽酸
H2+Cl2=2HCl（反應條件：點燃）
然後用水吸收
在合成塔內完成
4、工業制氯氣
2NaCl+2H2O=H2+Cl2+2NaOH（電解飽和食鹽水）
5、工業制純鹼（侯氏）
NH3+H2O+CO2=NH4HCO3
NH4HCO3+NaCl=NaHCO3+NH4Cl（NH4HCO3結晶析出）
2NaHCO3=Na2CO3+H2O+CO2（反應條件：加熱鋒盯）
6、工業制氨氣
3H2+N2=2NH3 （反應條件：高溫高壓催化劑作用下）
註：催化劑為鐵觸媒
7、工業制金屬鋁
2Al2O3=4Al+3O2 （反應條件：電解,催化劑為熔融的冰晶石）
註：冰晶冊基讓石化學式為NaAlF6
8、工業制O2
分離液態空氣
9、工業制硅
2C+ SiO2==高溫==2CO + Si
這是工業製取粗硅的方法
然後Si + Cl2==加熱==SiCl4
SiCl4 + 2H2==加熱==Si + 4HCl 最後得到的高純度硅
10、工業煉鐵
3CO+Fe2O3=高溫 3CO2+2Fe
希望對你有所州局幫助

7. 工業製取單質硅的方法

工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石（二氧化硅含量大於99%）。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），採用質量高的硅石（二氧化硅大於99%），可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。

高純的半導體硅可在1，200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉，再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得單質硅。

(7)工業制硅需要多少木頭擴展閱讀

硅的應用領域：

1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導體；摻入微量的第VA族元素，形成n型半導體。

2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結，製成金屬陶瓷復合材料，它耐高溫，富韌性，可以切割，既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點，又彌補了兩者的先天缺陷。

3、光導纖維通信，最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里，發生無數次全反射而向前傳輸，代替了笨重的電纜。

8. 工業製取單質硅的方法

工業上常用還原石英砂的方法來製取單質硅，一般在高溫下利用強還原劑去還原SiO2來得到單質硅。如：SiO2+2C
Si+2CO↑。但該反應只能得到純度不高的硅，這種硅不能用作半導體材料，也不能用於製造硅整流器等，因此需要提純硅得到高純度的硅。主要經過以下幾步反應來實現：Si(粗)+2Cl2
=SiCl4
SiCl4+2H2
=Si(純)+4HCl

9. 粗硅的制備及提出

SiO
2
+C=高溫=Si+CO↑
這就是工業製取粗硅的基本原理。